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x射線與俄歇光電子能
本專題涉及x射線與俄歇光電子能的標準有108條。
國際標準分類中，x射線與俄歇光電子能涉及到光學和光學測量、無損檢測、電子元器件綜合、分析化學、長度和角度測量、電學、磁學、電和磁的測量、醫學科學和保健裝置綜合。
在中國標準分類中，x射線與俄歇光電子能涉及到光學測試儀器、標準化、質量管理、基礎標準與通用方法、質譜儀、液譜儀、能譜儀及其聯用裝置、綜合測試系統、電子光學與其他物理光學儀器、化學、化學助劑基礎標準與通用方法、電化學、熱化學、光學式分析儀器、電子測量與儀器綜合。
美國材料與試驗協會，關于x射線與俄歇光電子能的標準
- ASTM E995-16 俄歇電子光譜和X射線光電子能譜背景減法技術標準指南
- ASTM E996-04 俄歇電子光譜儀和X射線光電子能譜的報告數據的標準規程
- ASTM E996-10 俄歇電子光譜儀和X射線光電子能譜的報告數據的標準規程
- ASTM E996-10(2018) 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜中數據報告的標準實施規程
- ASTM E996-19 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜中數據報告的標準實施規程
- ASTM E996-94(1999) 俄歇電子能譜分析和X射線光電子光譜分析數據報告的標準規程
- ASTM E995-11 在俄歇電子能譜和X射線光電子能譜中應用背景消除技術的標準指南
- ASTM E1217-11 用X射線光電子光譜儀和俄歇電子光譜儀測定影響檢測信號樣品面積的標準操作規程
- ASTM E1217-11(2019) 用于確定在俄歇電子能譜儀和一些X射線光電子能譜儀中檢測到的信號的樣品區域的標準實踐
- ASTM E1217-00 用X射線光電子光譜儀和俄歇電子光譜儀測定影響檢測信號的樣品面積的標準實施規范
- ASTM E1217-05 用X射線光電子光譜儀和俄歇電子光譜儀測定影響檢測信號的樣品面積的標準實施規范
- ASTM E2108-16 X射線光電子能譜儀的電子結合能量標尺的標準實踐
- ASTM E2108-10 用X射線光電子分光計測定電子能量捆綁刻度的標準實施規程
- ASTM E2108-00 X射線光電子分光儀的電子結合能刻度表的校準的標準操作規程
- ASTM E2735-14(2020) 用于選擇X射線光電子能譜所需校準的標準指南
- ASTM E2108-05 X-射線光電分光儀的電子結合能刻度表校準的標準實施規程
- ASTM E902-94(1999) 檢查X射線光電子能譜儀工作特性的標準實施規程
- ASTM E1523-97 X射線光電子能譜法中電荷控制和電荷參考技術的標準指南
- ASTM E1523-15 X射線光電子能譜法中電荷控制和電荷參考技術的標準指南
- ASTM E1588-10e1 掃描電子顯微術/能量散射X射線光譜法射擊殘留物分析的標準指南
行業標準-電子，關于x射線與俄歇光電子能的標準
- SJ/T 10458-1993 俄歇電子能譜術和X射線光電子能譜術的樣品處理標準導則
- SJ/T 10714-1996 檢查X射線光電子能譜儀工作特性的標準方法
國際標準化組織，關于x射線與俄歇光電子能的標準
- ISO 21270:2004 表面化學分析 X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀.強度標的線性
- ISO 18516:2006 表面化學分析.俄歇電子光譜法和X射線光電子光譜法.橫向分辨率測定
- ISO 20903:2011 表面化學分析.俄歇電子能普和X射線光電子光譜.通報結果所需峰值強度和信息的測定方法
- ISO 20903:2019 表面化學分析 - 俄歇電子光譜和X射線光電子能譜 - 用于確定峰值強度的方法和報告結果時所需的信息
- ISO/TR 19319:2003 表面化學分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.分析員對橫向分辨率、分析區域和樣品區域的目視檢測
- ISO 17109:2022 表面化學分析.深度剖面.用單層和多層薄膜在X射線光電子能譜、俄歇電子能譜和二次離子質譜中測定濺射速率的方法
- ISO 16129:2012 表面化學分析.X射線光電子能光譜學.X射線光電子能譜儀日常性能評估規程
- ISO/DIS 18118:2023 表面化學分析 俄歇電子能譜和 X 射線光電子能譜 使用實驗確定的相對靈敏度因子進行均質材料定量分析的指南
- ISO/FDIS 18118:2023 表面化學分析 - 俄歇電子能譜和 X 射線光電子能譜 - 使用實驗確定的相對靈敏度因子進行均質材料定量分析的指南
- ISO 16129:2018 表面化學分析 - X射線光電子能譜 - 評估X射線光電子能譜儀日常性能的方法
- ISO 17109:2015 表面化學分析. 深度剖析. 使用單層和多層薄膜測定X射線光電子能譜, 俄歇電子能譜以及二次離子質譜法濺射深度剖析中濺射率的方法
- ISO 18118:2004 表面化學分析.俄歇電子光譜法和X射線光電子光譜法.同質材料定量分析用實驗室測定相對敏感性因子的使用指南
- ISO 18118:2015 表面化學分析.俄歇電子光譜法和X射線光電子光譜法.同質材料定量分析用實驗室測定相對敏感性因子的使用指南
- ISO 10810:2019 表面化學分析 - X射線光電子能譜分析指南
- ISO 10810:2010 表面化學分析.X射線光電子能譜學.分析導則
- ISO 19830:2015 表面化學分析. 電子能譜. X射線光電子能譜峰擬合的最低報告要求
- ISO/CD TR 18392:2023 表面化學分析 X 射線光電子能譜 確定背景的程序
- ISO 15470:2017 表面化學分析. X射線光電子能譜. 選擇儀器性能參數說明
- ISO 14701:2018 表面化學分析 - X射線光電子能譜 - 氧化硅厚度的測量
- ISO 14701:2011 表面化學分析.X射線光電子能譜.二氧化硅厚度的測量
- ISO 13424:2013 表面化學分析——X射線光電子能譜；薄膜分析結果的報告
- ISO 18554:2016 表面化學分析. 電子光譜. 采用X射線光電子能譜分析法對材料進行分析的X射線的意外降解的識別, 評估和修正程序
- ISO 16243:2011 表面化學分析.X射線光電子能譜術(XPS)的記錄和報告數據
韓國科技標準局，關于x射線與俄歇光電子能的標準
- KS D ISO 21270:2005 表面化學分析.X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀.強度標的線性
- KS D ISO 21270-2005(2020) 表面化學分析X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀強度標度的線性
- KS D ISO 19319-2005(2020) 表面化學分析－俄歇電子能譜和X射線光電子能譜－分析儀橫向分辨率、分析面積和樣品面積的測定
- KS D ISO 19319:2005 表面化學分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.分析員對橫向分辨率、分析區域和樣品區域的目視檢測
- KS D ISO 18118-2005(2020) 表面化學分析俄歇電子能譜和X射線光電子能譜均勻材料定量分析用實驗測定的相對靈敏度因子的使用指南
- KS D ISO 18118:2005 表面化學分析.俄歇電子光譜法和X射線光電子光譜法.同質材料定量分析用實驗室測定相對敏感性因子的使用指南
- KS D ISO 15472-2003(2018) 表面化學分析-X射線光電子分光器-能量刻度矯正
- KS D ISO 15470-2005(2020) 表面化學分析X射線光電子能譜儀部分性能參數說明
- KS D ISO 19318-2005(2020) 表面化學分析X射線光電子能譜電荷控制和電荷校正方法報告
國家質檢總局，關于x射線與俄歇光電子能的標準
- GB/T 21006-2007 表面化學分析 X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀 強度標的線性
- GB/T 28632-2012 表面化學分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.橫向分辨率測定
- GB/T 31470-2015 俄歇電子能譜與X射線光電子能譜測試中確定檢測信號對應樣品區域的通則
- GB/T 28893-2012 表面化學分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.測定峰強度的方法和報告結果所需的信息
- GB/T 29556-2013 表面化學分析 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜 橫向分辨率、分析面積和分析器所能檢測到的樣品面積的測定
- GB/T 30702-2014 表面化學分析 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜 實驗測定的相對靈敏度因子在均勻材料定量分析中的使用指南
- GB/T 25184-2010 X射線光電子能譜儀鑒定方法
- GB/T 19500-2004 X射線光電子能譜分析方法通則
- GB/T 30704-2014 表面化學分析 X射線光電子能譜 分析指南
- GB/T 22571-2008 表面化學分析.X射線光電子能譜儀.能量標尺的校準
- GB/Z 32490-2016 表面化學分析 X射線光電子能譜 確定本底的程序
- GB/T 28892-2012 表面化學分析.X射線光電子能譜.選擇儀器性能參數的表述
英國標準學會，關于x射線與俄歇光電子能的標準
- BS ISO 21270:2004 表面化學分析 X 射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀 強度尺度的線性
- BS ISO 21270:2005 表面化學分析.X射線光電子和俄歇電子光譜儀.強度標的線性度
- BS ISO 18516:2006 表面化學分析.俄歇電子光譜法和X射線光電子光譜法.橫向分辨率測定
- BS ISO 20903:2011 表面化學分析.俄歇電子能譜和X-射線光電光譜學.測定峰強度的方法和報告結果要求的信息
- BS ISO 20903:2019 表面化學分析 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜 用于確定峰值強度的方法和報告結果時所需的信息
- BS ISO 16129:2012 表面化學分析.X射線光電子能光譜學.X射線光電子能譜儀日常性能評估規程
- BS ISO 18118:2015 表面化學分析 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜 使用實驗確定的相對靈敏度因子進行均質材料定量分析的指南
- BS ISO 16129:2018 表面化學分析 X射線光電子能譜 X 射線光電子能譜儀日常性能評估程序
- BS ISO 17109:2015 表面化學分析. 深度剖析. 使用單層和多層薄膜測定X射線光電子能譜, 俄歇電子能譜以及二次離子質譜法濺射深度剖析中濺射率的方法
- BS ISO 17109:2022 表面化學分析 深度剖析 使用單層和多層薄膜的 X 射線光電子能譜、俄歇電子能譜和二次離子質譜濺射深度分析中濺射速率的測定方法...
- 21/30433862 DC BS ISO 17109 AMD1 表面化學分析 深度剖析 使用單一和……的 X 射線光電子能譜、俄歇電子能譜和二次離子質譜濺射深度分析中濺射速率測定方法
- 23/30461294 DC BS ISO 18118 表面化學分析 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜 使用實驗確定的相對靈敏度因子進行均質材料定量分析的指南
- BS ISO 18118:2005 表面化學分析.俄歇電子光譜法和X射線光電子光譜法.同質材料定量分析用實驗室測定相對敏感性系數的使用指南
- BS ISO 10810:2019 表面化學分析 X射線光電子能譜 分析指南
- BS ISO 10810:2010 表面化學分析.X射線光電子能譜法.分析指南
- BS ISO 15472:2010 表面化學分析.X射線光電子分光計.能量等級的校準
- BS ISO 19830:2015 表面化學分析. 電子能譜. X射線光電子能譜峰擬合的最低報告要求
- BS ISO 14701:2018 表面化學分析 X射線光電子能譜 氧化硅厚度的測量
- BS ISO 14701:2011 表面化學分析.X射線光電子能譜學.二氧化硅厚度測量
- BS ISO 18554:2016 表面化學分析. 電子光譜. 采用X射線光電子能譜分析法對材料進行分析的X射線的意外降解的識別, 評估和修正程序
- BS ISO 16243:2011 表面化學分析.X射線光電子能譜術(XPS)的記錄和報告數據
未注明發布機構，關于x射線與俄歇光電子能的標準
- BS ISO 21270:2004(2010) 表面化學分析 X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀 強度標度線性度
- BS ISO 18516:2006(2010) 表面化學分析 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜 橫向分辨率的測定
法國標準化協會，關于x射線與俄歇光電子能的標準
- NF X21-058:2006 表面化學分析.俄歇電子能譜學和X射線光電子光譜法.測定峰強度使用的方法和報告結果時需要的信息
- NF X21-071:2011 表面化學分析.X射線光電子能譜法.分析用導則
- NF X21-073*NF ISO 16243:2012 表面化學分析.X射線光電子能譜術(XPS)的記錄和報告數據
- NF ISO 16243:2012 表面化學分析 X 射線光電子能譜(XPS)中的數據記錄和報告
日本工業標準調查會，關于x射線與俄歇光電子能的標準
- JIS K 0167:2011 表面化學分析.俄歇電子光譜和X射線光電子能譜學.勻質材料定量分析用實驗室測定相對敏感因子的使用指南
- JIS K 0145:2002 表面化學分析.X射線光電子分光計.能量刻度的校準
澳大利亞標準協會，關于x射線與俄歇光電子能的標準
- AS ISO 18118:2006 表面化學分析．俄歇電子能譜法和X射線光電子光譜法．均質材料定量分析中實驗測定的相對靈敏系數使用指南
- AS ISO 15472:2006 表面化學分析．X射線光電子光譜法．能量標度的校準
- AS ISO 15470:2006 表面化學分析．X射線光電子光譜法．選定儀器性能參數的描述
國家市場監督管理總局、中國國家標準化管理委員會，關于x射線與俄歇光電子能的標準
- GB/T 41064-2021 表面化學分析 深度剖析 用單層和多層薄膜測定X射線光電子能譜、俄歇電子能譜和二次離子質譜中深度剖析濺射速率的方法
- GB/T 41073-2021 表面化學分析 電子能譜 X射線光電子能譜峰擬合報告的基本要求
- GB/T 36401-2018 表面化學分析 X射線光電子能譜 薄膜分析結果的報告
德國標準化學會，關于x射線與俄歇光電子能的標準
- DIN ISO 16129:2020-11 表面化學分析 X射線光電子能譜 X射線光電子能譜儀日常性能評估程序
- DIN ISO 16129:2020 表面化學分析. X射線光電子能譜-評估X射線光電子能譜儀的日常性能的程序(ISO 16129-2018); 英文文本
- DIN ISO 15472:2020-05 表面化學分析 - X 射線光電子能譜儀 - 能量標度校準 (ISO 15472:2010)
- DIN ISO 15472:2020 表面化學分析 X 射線光電子能譜儀 能標校準（ISO 15472:2010）；英文文本
中華人民共和國國家質量監督檢驗檢疫總局、中國國家標準化管理委員會，關于x射線與俄歇光電子能的標準
- GB/T 22571-2017 表面化學分析 X射線光電子能譜儀 能量標尺的校準
- GB/T 33502-2017 表面化學分析 X射線光電子能譜（XPS）數據記錄與報告的規范要求
KR-KS，關于x射線與俄歇光電子能的標準
- KS D ISO 15472-2003(2023) 表面化學分析-X射線光電子能譜儀-能量刻度的校準
