BS ISO 19830:2015
表面化學分析. 電子能譜. X射線光電子能譜峰擬合的最低報告要求

Surface chemical analysis. Electron spectroscopies. Minimum reporting requirements for peak fitting in X-ray photoelectron spectroscopy

適用范圍: 本國際標準的目的是定義X射線光電子能譜中峰擬合和峰擬合結果應如何報告。它適用于單個譜圖的擬合或一組相關譜圖的擬合，例如在深度剖面測量中可能獲得的譜圖。本國際標準提供了一個參數列表，如果要實現可重復的峰擬合或擬合多個譜圖并比較擬合譜圖，則應報告這些參數。本國際標準不提供峰擬合的說明或應采用的程序。

術語	描述
非彈性背景 background, inelastic	譜圖中由于一個或多個非彈性散射過程，原始能量相同的粒子在較低能量處發射的強度分布。
Shirley背景 background, Shirley	在高于和低于感興趣峰的動能點處計算的背景，使得在給定動能處的背景貢獻與高于該背景的動能的總峰面積成固定比例。
Tougaard背景 background, Tougaard	從能量損失微分非彈性散射截面模型和表面區域發射原子的三維分布中獲得的強度分布。
峰擬合 peak fitting	通過調整合成譜圖以匹配測量譜圖的過程。
峰合成 peak synthesis	使用模型或實驗峰形生成合成譜圖的過程，調整峰的數量、峰形、峰寬、峰位置、峰強度和背景形狀及強度以進行峰擬合。

X射線光電子能譜儀	用于X射線光電子能譜分析的設備。