表面質譜 儀
本專題涉及表面質譜 儀的標準有85條。
國際標準分類中，表面質譜 儀涉及到分析化學、金屬材料試驗、半導體材料、食品綜合、集成電路、微電子學。
在中國標準分類中，表面質譜 儀涉及到基礎標準與通用方法、半金屬及半導體材料分析方法、元素半導體材料、半金屬與半導體材料綜合、電子光學與其他物理光學儀器、、化學助劑基礎標準與通用方法、化學、半導體分立器件綜合、食品衛生、表面活性劑、輕金屬及其合金分析方法、教育、學位、學銜。
國家市場監督管理總局、中國國家標準化管理委員會，關于表面質譜 儀的標準
- GB/T 41064-2021 表面化學分析 深度剖析 用單層和多層薄膜測定X射線光電子能譜、俄歇電子能譜和二次離子質譜中深度剖析濺射速率的方法
- GB/T 40109-2021 表面化學分析 二次離子質譜 硅中硼深度剖析方法
- GB/T 40129-2021 表面化學分析 二次離子質譜 飛行時間二次離子質譜儀質量標校準
- GB/T 39145-2020 硅片表面金屬元素含量的測定 電感耦合等離子體質譜法
國家質檢總局，關于表面質譜 儀的標準
- GB/T 32495-2016 表面化學分析 二次離子質譜 硅中砷的深度剖析方法
- GB/T 29849-2013 光伏電池用硅材料表面金屬雜質含量的電感耦合等離子體質譜測量方法
- GB/T 25186-2010 表面化學分析.二次離子質譜.由離子注入參考物質確定相對靈敏度因子
- GB/T 24575-2009 硅和外延片表面Na、Al、K和Fe的二次離子質譜檢測方法
- GB/T 22572-2008 表面化學分析 二次離子質譜 用多δ層參考物質評估深度分辨參數的方法
- GB/T 20176-2006 表面化學分析.二次離子質譜.用均勻摻雜物質測定硅中硼的原子濃度
國際標準化組織，關于表面質譜 儀的標準
- ISO 17862-2022 表面化學分析.二次離子質譜法.單離子計數飛行時間質量分析儀中強度標度的線性
- ISO/TS 22933-2022 表面化學分析.二次離子質譜法.模擬離子質譜中質量分辨率的測量方法
- ISO 17109-2022 表面化學分析.深度剖面.用單層和多層薄膜在X射線光電子能譜、俄歇電子能譜和二次離子質譜中測定濺射速率的方法
- ISO 18114:2021 表面化學分析 - 二次離子質譜法 - 離子注入參考物質的相對敏感性因子的測定
- ISO 18114-2021 表面化學分析. 次級離子質譜法. 測定離子注入標樣中的相對靈敏度系數
- ISO/TS 15338-2020 表面化學分析 - 輝光放電質譜 - 操作程序
- ISO 22415-2019 表面化學分析.二次離子質譜法.有機材料氬團簇濺射深度剖面測定屈服體積的方法
- ISO 13084-2018 表面化學分析 - 二次離子質譜法 - 用于飛行時間二次離子質譜儀的質譜的校準
- ISO 13084:2018 表面化學分析 - 二次離子質譜法 - 用于飛行時間二次離子質譜儀的質譜的校準
- ISO 17109-2015 表面化學分析. 深度剖析. 使用單層和多層薄膜測定X射線光電子能譜, 俄歇電子能譜以及二次離子質譜法濺射深度剖析中濺射率的方法
- ISO 17109:2015 表面化學分析 - 深度分析 - X射線光電子能譜法中的濺射速率測定方法 俄歇電子能譜和二次離子質譜法使用單層和多層薄膜的濺射深度分析
- ISO 17560:2014 表面化學分析 - 二次離子質譜法 - 硅在硅中深度分析的方法
- ISO 17862-2013 表面化學分析.次級離子質譜法.單離子計數飛行時間質量分析器強度標的線性
- ISO 17862:2013 表面化學分析——二次離子質譜法——單離子計數飛行時間質量分析儀中強度標度的線性
- ISO 13084-2011 表面化學分析.二次離子質譜分析法.飛行時間二次離子質譜儀用質量標度的校準
- ISO 13084:2011 表面化學分析——二次離子質譜法——飛行時間二次離子質譜儀質量刻度的標定
- ISO 12406-2010 表面化學分析.二次離子質譜分析法.硅中砷的深度剖析法
- ISO 12406:2010 表面化學分析——二次離子質譜法——硅中砷的深度剖面分析方法
- ISO 14237:2010 表面化學分析——二次離子質譜法——用均勻摻雜材料測定硅中硼原子濃度
- ISO 14237-2010 表面化學分析.二次離子質譜.用均勻摻雜物質測定硅中硼的原子濃度
- ISO 23812:2009 表面化學分析——二次離子質譜法——使用多δ層標準物質的硅深度校準方法
- ISO 23812-2009 表面化學分析.次級離子質譜測定法.使用多δ層參考材料的硅深度校準方法
- ISO/TS 15338-2009 表面化學分析.輝光放電質譜測定法(GD-MS).使用介紹
- ISO/TS 15338:2009 表面化學分析——輝光放電質譜（GD-MS）——使用簡介
- ISO 23830:2008 表面化學分析——二次離子質譜法——靜態二次離子質譜中相對強度標度的重復性和穩定性
- ISO 23830-2008 表面化學分析.次級離子質譜測定法.靜態次級離子質譜測定法中相對強度數值范圍的重復性和穩定性
- ISO 22048:2004 表面化學分析——靜態二次離子質譜信息格式
- ISO 22048-2004 表面化學分析.靜態次生離子質譜法的信息格式
- ISO 20341:2003 表面化學分析——二次離子質譜法——利用多delta層標準物質估算深度分辨率參數的方法
- ISO 20341-2003 表面化學分析.次級離子質譜法.多δ層標準材料深度溶解參數的估算方法
- ISO 18114:2003 表面化學分析——二次離子質譜法——離子注入標準物質相對靈敏度因子的測定
- ISO 18114-2003 表面化學分析.次級離子質譜法.測定離子注入標樣中的相對靈敏度系數
- ISO 14237:2000 表面化學分析.二次離子質譜法.使用均勻摻雜材料測定硅中的硼原子濃度
- ISO 14237-2000 表面化學分析 二次離子質譜 用均勻摻雜物質測定硅中硼的原子濃度
- ISO 178-1975 表面化學分析.二次離子質譜法.單離子計數飛行時間質量分析儀中強度標度的線性
- ISO 178-2019 表面化學分析.二次離子質譜法.單離子計數飛行時間質量分析儀中強度標度的線性
日本工業標準調查會，關于表面質譜 儀的標準
- JIS K0158-2021 表面化學分析. 二次離子質譜法. 單離子計數動態二次離子質譜法中飽和強度的校正方法
- JIS K0157-2021 表面化學分析. 二次離子質譜法. 渡越時間二次離子質譜儀的質量標度的校準
- JIS K0153-2015 表面化學分析. 二次離子質譜法. 靜態二次離子質譜法中相對強度范圍的重復性和穩定性
- JIS K0169-2012 表面化學分析.二次離子質譜(SIMS).帶多重亞鉛層對照物的深度分辨率參數估算方法
- JIS K0168-2011 表面化學分析.靜態二次離子質譜法用信息格式
- JIS K0163-2010 表面化學分析.次級離子質譜法.離子注入標樣中相對靈敏度系數的測定
- JIS K0143-2000 表面化學分析.次級離子質譜法.利用均勻摻雜材料測定硅中硼原子濃度
中國團體標準，關于表面質譜 儀的標準
- T/GITU 013-2021 餐具洗滌劑及清洗后餐具表面氯酸鹽、高氯酸鹽含量測定 液相色譜-串聯質譜法
英國標準學會，關于表面質譜 儀的標準
- BS ISO 17109-2015 表面化學分析. 深度剖析. 使用單層和多層薄膜測定X射線光電子能譜, 俄歇電子能譜以及二次離子質譜法濺射深度剖析中濺射率的方法
- BS ISO 17862-2013 表面化學分析.次級離子質譜法.單離子計數飛行時間質量分析器強度標的線性
- BS ISO 13084-2011 表面化學分析.二次離子質譜.飛行時間二次離子質譜用質量標度的校準
- BS ISO 12406-2010 表面化學分析.二次離子質譜分析法.硅中砷的深度剖析法
- BS ISO 14237-2010 表面化學分析.二次離子質譜.用均勻摻雜物質測定硅中硼的原子濃度
- BS DD ISO/TS 15338-2009 表面化學分析.輝光放電質譜法(GD-MS).用法介紹
- BS ISO 23812-2009 表面化學分析.次級離子質譜分析法.用多δ層基準物質對硅進行深度校準的方法
- BS ISO 23830-2008 表面化學分析.次級離子質譜法.靜態次級離子質譜法中相對強度數值范圍的重復性和穩定性
- BS ISO 22048-2005 表面化學分析.靜態次生離子質譜法的信息格式
- BS ISO 20341-2003 表面化學分析.次級離子質譜法.多δ層標準材料深度溶解參數的估算方法
- BS ISO 18114-2003 表面化學分析.次級離子質譜法.測定離子注入標樣的相對靈敏系數
行業標準-商品檢驗，關于表面質譜 儀的標準
- SN/T 4240-2015 電子電氣產品 金屬部件表面鍍鎳層中鉛、鎘含量測定 電感耦合等離子體質譜法
- SN/T 2898-2011 出口食品接觸材料.金屬材料.表面涂層中氯乙烯遷移量的測定.氣相色譜質譜法
德國標準化學會，關于表面質譜 儀的標準
- DIN 51456-2013 半導體技術用材料的試驗. 使用電感耦合等離子體質譜法 (ICP-MS) 通過水分析解決方案的多元素測定進行硅晶片的表面分析
法國標準化協會，關于表面質譜 儀的標準
- NF X21-070-2010 表面化學分析.二次離子質譜.用均勻摻雜物質測定硅中硼的原子濃度.
- NF X21-066-2009 表面化學分析.次級離子質譜分析法.用多δ層參考物質對硅進行深度校準的方法
- NF X21-064-2009 表面化學分析.次級離子質譜測定法.靜態次級離子質譜測定法中相對強度數值范圍的重復性和穩定性
韓國標準，關于表面質譜 儀的標準
- KS D ISO 18114-2005 表面化學分析.次級離子質譜法.測定離子注入標樣中的相對靈敏度系數
- KS D ISO 22048-2005 表面化學分析.靜態次生離子質譜法的信息格式
- KS D ISO 20341-2005 表面化學分析.次級離子質譜法.多δ層標準材料深度溶解參數的估算方法
- KS D ISO 14237-2003 表面化學分析.次級離子質譜法.使用非均一摻雜材料的硅中硼原子的濃度測定
，關于表面質譜 儀的標準
- KS D ISO 18114-2005(2020) 表面化學分析二次離子質譜法離子注入標準物質相對靈敏度因子的測定
- KS D ISO 20341-2005(2020) 表面化學分析二次離子質譜法用多δ層標準物質估算深度分辨參數的方法
- KS D ISO 22048-2005(2020) 表面化學分析 - 靜態二次離子質譜的信息格式
美國材料與試驗協會，關于表面質譜 儀的標準
- ASTM F1617-98 用二次離子質譜法測量硅和外延襯底上表面鈉鋁鉀鐵的標準試驗方法
- ASTM F1617-1998 用次級離子質譜測定法(SIMS)測定表面鈉,鋁,鉀-硅和EPI襯底的標準試驗方法
澳大利亞標準協會，關于表面質譜 儀的標準
- AS ISO 17560-2006 表面化學分析．次級離子質譜測量法．硅中注入硼的深度分布分析法
- AS ISO 14237-2006 表面化學分析．次級離子質譜測量法．使用均一的絕緣材料測定硅中的硼原子濃度
- AS ISO 22048-2006 表面化學分析．靜止次級離子質譜測量法用信息格式
- AS ISO 18114-2006 表面化學分析．次級離子質譜法．植入離子的參考材料的相對靈敏系數的測定
行業標準-教育，關于表面質譜 儀的標準
- JY/T 004-1996 表面熱電離同位素質譜方法通則
