JIS K0143-2000
表面化學分析.次級離子質譜法.利用均勻摻雜材料測定硅中硼原子濃度

Surface chemical analysis -- Secondary ion mass spectrometry -- Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials

標準號

JIS K0143-2000

發布日期

2000年07月20日

實施日期

廢止日期

無

中國標準分類號

G04

國際標準分類號

71.040.40

發布單位

JP-JISC

適用范圍

この規格は，ボロンを注入して作製した認証標準試料で校正した均一添加試料を用いて，単結晶シリコン中のボロンの原子濃度を決定するための二次ィオン質量分析法を規定する。濃度範囲として1×10<上16>atoms/cm<上3>から1×10<上20>atoms/cm<上3>の範囲の均一に添加されたボロンの濃度を決定する場合にこの方決を用いる。

JIS K0143-2000 中可能用到的儀器設備

誰引用了JIS K0143-2000 更多引用