JIS K 0143:2000
表面化學分析.次級離子質譜法.利用均勻摻雜材料測定硅中硼原子濃度
Surface chemical analysis -- Secondary ion mass spectrometry -- Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials
2023-02
說明：
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- 標準號
- JIS K 0143:2000
- 發布
- 2000年
- 發布單位
- 日本工業標準調查會
- 替代標準
- JIS K 0143:2023
- 當前最新
- JIS K 0143:2023
- この規格は，ボロンを注入して作製した認証標準試料で校正した均一添加試料を用いて，単結晶シリコン中のボロンの原子濃度を決定するための二次ィオン質量分析法を規定する。濃度範囲として1×10<上16>atoms/cm<上3>から1×10<上20>atoms/cm<上3>の範囲の均一に添加されたボロンの濃度を決定する場合にこの方決を用いる。
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