GB/T 40109-2021
表面化學分析 二次離子質譜 硅中硼深度剖析方法
Surface chemical analysis—Secondary-ion mass spectrometry—Method for depth profiling of boron in silicon
GBT40109-2021, GB40109-2021
- 標準號
- GB/T 40109-2021
- 別名
- GBT40109-2021, GB40109-2021
- 發布
- 2021年
- 采用標準
- ISO 17560:2014 IDT
- 發布單位
- 國家市場監督管理總局、中國國家標準化管理委員會
- 當前最新
- GB/T 40109-2021
- 引用標準
- ISO 14237:2010
- 適用范圍
- 本文件描述了用扇形磁場或四極桿式二次離子質譜儀對硅中硼進行深度剖析的方法,以及用觸針式表面輪廓儀或光學干涉儀深度定標的方法。/cm3 ~1×1020 a /cm3 的單晶硅、多晶硅或非晶本文件適用于硼原子濃度范圍1×1016 a t oms t oms 硅樣品,濺射弧坑深度在50nm 及以上。
專題
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