包括“涕滅威有效成分含量的測定方法 液相色譜法”等液相色譜、高效液相色譜方法,以及“光伏電池用硅材料中金屬雜質含量的電感耦合等離子體質譜測量方法”等ICP-MS方法。 ...
正因為這些優點,使ICP-MS分析技術廣泛應 用于半導體工業用高純材料的痕量雜質分析中.主要進行的高純材料分析1. IC硅片表面雜質分析2. 光伏多晶硅、單晶硅雜質分析3. 三氯氫硅、四氯化硅: ICP.MS法測定高純四氯化硅中們、V、cr、‘ Co、Ni、Cu、Pb、Zn、Mn九種金屬元素.4....
2016表面化學分析二次離子質譜硅中砷的深度剖析方法2017-01-01GB/T 32498-2016金屬基復合材料拉伸試驗室溫試驗方法2017-01-01GB/T 32508-2016絕緣油中腐蝕性硫(二芐基二硫醚)定量檢測方法2016-09-01GB/T 32548-2016鋼鐵錫、銻、鈰、鉛和鉍的測定電感耦合等離子體質譜法2016-11-01GB/T 32573-2016硅粉總碳含量的測定感應爐內燃燒后紅外吸收法...
/T 43589-2023金合金飾品 多元素含量測定 激光剝蝕-電感耦合等離子體質譜法2023/12/282024/7/1首次制定7GB/T 43574-2023化學纖維 重金屬含量的測定 電感耦合等離子體發射光譜法和電感耦合等離子體質譜法2023/12/282024/7/1首次制定8GB/T 43604.1-2023鎵基液態金屬化學分析方法 第1部分:鉛、鎘、汞、砷含量的測定 電感耦合等離子體質譜法...
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