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  • 俄歇電子能譜在薄膜

    本專題涉及俄歇電子能譜在薄膜的標準有79條。

    國際標準分類中,俄歇電子能譜在薄膜涉及到分析化學、光學設備、光學和光學測量、金屬材料試驗、電子元器件綜合、無損檢測、長度和角度測量、電學、磁學、電和磁的測量。

    在中國標準分類中,俄歇電子能譜在薄膜涉及到基礎標準與通用方法、電子光學與其他物理光學儀器、金屬化學分析方法綜合、標準化、質量管理、化學、光學測試儀器、質譜儀、液譜儀、能譜儀及其聯用裝置、化學助劑基礎標準與通用方法、光學計量儀器、綜合測試系統。


    中華人民共和國國家質量監督檢驗檢疫總局、中國國家標準化管理委員會,關于俄歇電子能譜在薄膜的標準

    國家質檢總局,關于俄歇電子能譜在薄膜的標準

    • GB/T 26533-2011 俄歇電子能譜分析方法通則
    • GB/T 28632-2012 表面化學分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.橫向分辨率測定
    • GB/Z 32494-2016 表面化學分析 俄歇電子能譜 化學信息的解析
    • GB/T 21006-2007 表面化學分析 X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀 強度標的線性
    • GB/T 25187-2010 表面化學分析.俄歇電子能譜.選擇儀器性能參數的表述
    • GB/T 25187-2024 表面化學分析 俄歇電子能譜 選擇儀器性能參數的表述
    • GB/T 29558-2013 表面化學分析 俄歇電子能譜 強度標的重復性和一致性
    • GB/T 31470-2015 俄歇電子能譜與X射線光電子能譜測試中確定檢測信號對應樣品區域的通則

    行業標準-機械,關于俄歇電子能譜在薄膜的標準

    國際標準化組織,關于俄歇電子能譜在薄膜的標準

    • ISO 17109:2022 表面化學分析.深度剖面.用單層和多層薄膜在X射線光電子能譜、俄歇電子能譜和二次離子質譜中測定濺射速率的方法
    • ISO/TR 18394:2016 表面化學分析. 俄歇電子能譜學. 提取化學信息
    • ISO 21270:2004 表面化學分析 X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀.強度標的線性
    • ISO 17109:2015/DAmd 1 表面化學分析 深度分析 X射線光電子能譜、俄歇電子能譜和二次離子質譜濺射深度分析中使用單層和多層薄膜的濺射速率測定方法 A...
    • ISO 17109:2015 表面化學分析. 深度剖析. 使用單層和多層薄膜測定X射線光電子能譜, 俄歇電子能譜以及二次離子質譜法濺射深度剖析中濺射率的方法
    • ISO 16242:2011 表面化學分析.俄歇電子能譜術(AES)的記錄和報告數據
    • ISO/DIS 17973:2023 表面化學分析 中分辨率俄歇電子能譜儀 元素分析能級的校準
    • ISO 29081:2010 表面化學分析.俄歇電子能譜法.電荷控制和電荷調整用報告法

    海灣阿拉伯國家合作委員會標準組織,關于俄歇電子能譜在薄膜的標準

    • GSO ISO 16242:2015 表面化學分析 在俄歇電子能譜中記錄和報告數據
    • GSO ISO/TR 18394:2021 表面化學分析 俄歇電子能譜 化學信息的推導
    • GSO ISO 18516:2013 表面化學分析俄歇電子能譜和X射線光電子能譜橫向分辨率的測定
    • GSO ISO 21270:2014 表面化學分析 X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀 強度標度的線性
    • GSO ISO 17973:2013 表面化學分析 中分辨率俄歇電子能譜儀 元素分析能級的校準

    美國材料與試驗協會,關于俄歇電子能譜在薄膜的標準

    • ASTM E1127-24 俄歇電子能譜深度剖面標準指南
    • ASTM E995-11 在俄歇電子能譜和X射線光電子能譜中應用背景消除技術的標準指南
    • ASTM E1127-08(2015) 俄歇電子能譜學中的深度壓形的標準指南
    • ASTM E1127-08 俄歇電子能譜學中的深度壓形的標準指南
    • ASTM E996-10(2018) 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜中數據報告的標準實施規程
    • ASTM E996-19 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜中數據報告的標準實施規程
    • ASTM E1127-91(1997) 俄歇電子能譜學中的深度壓形的標準指南
    • ASTM E995-16 俄歇電子光譜和X射線光電子能譜背景減法技術標準指南
    • ASTM E996-10 俄歇電子光譜儀和X射線光電子能譜的報告數據的標準規程
    • ASTM E996-04 俄歇電子光譜儀和X射線光電子能譜的報告數據的標準規程
    • ASTM E983-04 最小化俄歇電子能譜中不需要的電子束效應的標準指南
    • ASTM E996-94(1999) 俄歇電子能譜分析和X射線光電子光譜分析數據報告的標準規程
    • ASTM E1217-11(2019) 用于確定在俄歇電子能譜儀和一些X射線光電子能譜儀中檢測到的信號的樣品區域的標準實踐
    • ASTM E983-10 在俄歇電子譜法中測定化學效應和基質效應的標準指南
    • ASTM E984-12(2020) 識別俄歇電子能譜中化學效應和基質效應的標準指南
    • ASTM E984-95 識別俄歇電子能譜中化學效應和基質效應的標準指南
    • ASTM E984-95(2001) 識別俄歇電子能譜中化學效應和基質效應的標準指南
    • ASTM E984-06 用俄歇電子能譜法鑒別化學效應和基體效應用標準指南
    • ASTM E984-12 用俄歇電子能譜法鑒別化學效應和基體效應的標準指南

    行業標準-電子,關于俄歇電子能譜在薄膜的標準

    • SJ/T 10457-1993 俄歇電子能譜術深度剖析標準導則
    • SJ/T 10458-1993 俄歇電子能譜術和X射線光電子能譜術的樣品處理標準導則

    德國標準化學會,關于俄歇電子能譜在薄膜的標準

    國家市場監督管理總局、中國國家標準化管理委員會,關于俄歇電子能譜在薄膜的標準

    • GB/T 36504-2018 印刷線路板表面污染物分析 俄歇電子能譜
    • GB/T 41064-2021 表面化學分析 深度剖析 用單層和多層薄膜測定X射線光電子能譜、俄歇電子能譜和二次離子質譜中深度剖析濺射速率的方法
    • GB/T 36533-2018 硅酸鹽中微顆粒鐵的化學態測定 俄歇電子能譜法

    英國標準學會,關于俄歇電子能譜在薄膜的標準

    • PD ISO/TR 18394:2016 表面化學分析 俄歇電子能譜 化學信息的推導
    • BS PD ISO/TR 18394:2006 表面化學分析 俄歇電子能譜 化學信息的推導
    • BS ISO 18516:2006(2010) 表面化學分析 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜 橫向分辨率的測定
    • BS ISO 21270:2004(2010) 表面化學分析 X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀 強度標度線性度
    • BS ISO 17109:2015 表面化學分析. 深度剖析. 使用單層和多層薄膜測定X射線光電子能譜, 俄歇電子能譜以及二次離子質譜法濺射深度剖析中濺射率的方法
    • BS ISO 17109:2022 表面化學分析 深度剖析 使用單層和多層薄膜的 X 射線光電子能譜、俄歇電子能譜和二次離子質譜濺射深度分析中濺射速率的測定方法...
    • BS ISO 21270:2004 表面化學分析 X 射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀 強度尺度的線性
    • BS ISO 15471:2016 表面化學分析 俄歇電子能譜 所選儀器性能參數的描述
    • BS ISO 15471:2004 表面化學分析 俄歇電子能譜 所選儀器性能參數的描述
    • BS ISO 16242:2011 表面化學分析.俄歇電子能譜術的記錄和報告數據(AEC)
    • BS ISO 29081:2010 表面化學分析.俄歇電子能譜法.電荷控制和電荷調整用報告法
    • BS ISO 15471:2005 表面化學分析.俄歇電子光譜法.選定的儀器性能參數的描述

    法國標準化協會,關于俄歇電子能譜在薄膜的標準

    阿曼規格和計量局,關于俄歇電子能譜在薄膜的標準

    • OS GSO ISO 18516:2013 表面化學分析俄歇電子能譜和X射線光電子能譜橫向分辨率的測定
    • OS GSO ISO 21270:2014 表面化學分析 X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀 強度標度的線性
    • OS GSO ISO 29081:2013 表面化學分析 俄歇電子能譜 電荷控制和電荷校正方法的報告
    • OS GSO ISO 17973:2013 表面化學分析 中分辨率俄歇電子能譜儀 元素分析能級的校準

    韓國科技標準局,關于俄歇電子能譜在薄膜的標準

    巴林國家計量局,關于俄歇電子能譜在薄膜的標準


    俄歇電子能譜在薄膜

     

    可能用到的儀器設備

     

    PHI 710 掃描俄歇納米探針

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    高德科創有限公司

     

    準費米能級分裂測試儀 HiYield-QFLS

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    東譜科技(廣州)有限責任公司

     

    HM4 超高分子量 MALDI 質譜檢測系統 應用于生物制藥領域

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    華質泰科生物技術(北京)有限公司

     

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    北京英格海德分析技術有限公司

     

     




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