離子阱質譜分析
本專題涉及離子阱質譜分析的標準有82條。
國際標準分類中，離子阱質譜分析涉及到分析化學、金屬材料試驗、教育、建筑材料、印制電路和印制電路板、水質、有色金屬、無機化學。
在中國標準分類中，離子阱質譜分析涉及到基礎標準與通用方法、貴金屬及其合金分析方法、教學專用儀器、化學、印制電路、重金屬及其合金分析方法、重金屬及其合金、表面活性劑、化學試劑綜合。
美國給水工程協會，關于離子阱質譜分析的標準
- AWWA WQTC62560 離子阱質譜結合改進的吹掃捕集技術分析低揮發性化合物
- AWWA WQTC52856 使用固相微萃取 (SPME) 和選擇離子存儲 (SIS) 離子阱檢測進行廣譜味道和氣味分析
- AWWA QTC98327 采用吹掃捕集氣相色譜/離子阱質譜法對數百個市政飲用水樣品中的氯化氰進行常規分析
英國標準學會，關于離子阱質譜分析的標準
- BS ISO 20411:2018 表面化學分析 二次離子質譜分析 單離子計數動態二次離子質譜飽和強度校正方法
- BS ISO 13084:2018 表面化學分析 二次離子質譜分析 飛行時間二次離子質譜儀的質量標度校準
- BS ISO 13084:2011 表面化學分析.二次離子質譜.飛行時間二次離子質譜用質量標度的校準
- BS ISO 17862:2022 表面化學分析 二次離子質譜分析 單離子計數飛行時間質量分析儀中強度標度的線性
- BS ISO 17862:2013 表面化學分析.次級離子質譜法.單離子計數飛行時間質量分析器強度標的線性
- 10/30199193 DC BS ISO 13084 表面化學分析 二次離子質譜法 飛行時間二次離子質譜儀質量標度的校準
- 20/30409963 DC BS ISO 17862 表面化學分析 二次離子質譜分析 單離子計數飛行時間質量分析儀中強度標度的線性
- BS ISO 12406:2010 表面化學分析.二次離子質譜分析法.硅中砷的深度剖析法
- BS ISO 22048:2004 表面化學分析 靜態二次離子質譜的信息格式
- BS DD ENV 13800:2000 鉛及鉛合金.無鉛基質分離的火焰原子吸收光譜分析法(FAAS)或感應耦合等離子體發射光譜分析法(ICP-ES)
- BS ISO 22048:2004(2005) 表面化學分析靜態二次離子質譜的信息格式
- BS ISO 18114:2003 表面化學分析.次級離子質譜法.測定離子注入標樣的相對靈敏系數
- BS ISO 22048:2005 表面化學分析.靜態次生離子質譜法的信息格式
國際標準化組織，關于離子阱質譜分析的標準
- ISO 13084:2011 表面化學分析.二次離子質譜分析法.飛行時間二次離子質譜儀用質量標度的校準
- ISO/TS 22933:2022 表面化學分析.二次離子質譜法.模擬離子質譜中質量分辨率的測量方法
- ISO 13084:2018 表面化學分析 - 二次離子質譜法 - 用于飛行時間二次離子質譜儀的質譜的校準
- ISO 12406:2010 表面化學分析.二次離子質譜分析法.硅中砷的深度剖析法
- ISO 178:1975 表面化學分析.二次離子質譜法.單離子計數飛行時間質量分析儀中強度標度的線性
- ISO 17862:2022 表面化學分析.二次離子質譜法.單離子計數飛行時間質量分析儀中強度標度的線性
- ISO 17862:2013 表面化學分析——二次離子質譜法——單離子計數飛行時間質量分析儀中強度標度的線性
- ISO 178:2019 表面化學分析.二次離子質譜法.單離子計數飛行時間質量分析儀中強度標度的線性
- ISO 20411:2018 表面化學分析.二次離子質譜法.單離子計數動態二次離子光譜法中飽和強度的校正方法
- ISO 22048:2004 表面化學分析——靜態二次離子質譜信息格式
- ISO 17560:2014 表面化學分析 - 二次離子質譜法 - 硅在硅中深度分析的方法
國家市場監督管理總局、中國國家標準化管理委員會，關于離子阱質譜分析的標準
- GB/T 40129-2021 表面化學分析 二次離子質譜 飛行時間二次離子質譜儀質量標校準
- GB/T 40109-2021 表面化學分析 二次離子質譜 硅中硼深度剖析方法
- GB/T 39486-2020 化學試劑 電感耦合等離子體質譜分析方法通則
浙江省標準，關于離子阱質譜分析的標準
- DB33/T 543-2005 水果、蔬菜中農藥多殘留測定方法氣相色譜離子阱質譜聯用法
海灣阿拉伯國家合作委員會標準組織，關于離子阱質譜分析的標準
- GSO ISO 13084:2013 表面化學分析 二次離子質譜 飛行時間二次離子質譜儀的質量標度校準
- GSO ISO 18114:2013 表面化學分析 二次離子質譜 離子標準物質相對靈敏度因子的測定
- GSO ISO 23830:2013 表面化學分析 二次離子質譜 固定二次離子質譜中相對密度標度的重復性和穩定性
- GSO ISO 22048:2013 表面化學分析靜態二次離子質譜的信息格式
巴林國家計量局，關于離子阱質譜分析的標準
- BH GSO ISO 13084:2016 表面化學分析 二次離子質譜 飛行時間二次離子質譜儀的質量標度校準
- BH GSO ISO 17560:2016 表面化學分析二次離子質譜硅中硼深度分析方法
- BH GSO ISO 23830:2016 表面化學分析 二次離子質譜 靜態二次離子質譜中相對強度標度的重復性和穩定性
- BH GSO ISO 22048:2016 表面化學分析靜態二次離子質譜的信息格式
- BH GSO ISO 18114:2016 表面化學分析 二次離子質譜 離子注入參比材料相對靈敏度因子的測定
阿曼規格和計量局，關于離子阱質譜分析的標準
- OS GSO ISO 13084:2013 表面化學分析 二次離子質譜 飛行時間二次離子質譜儀的質量標度校準
- OS GSO ISO 23830:2013 表面化學分析 二次離子質譜 靜態二次離子質譜中相對強度標度的重復性和穩定性
- OS GSO ISO 12406:2013 表面化學分析二次離子質譜法硅中砷的深度分析方法
- OS GSO ISO 22048:2013 表面化學分析靜態二次離子質譜的信息格式
IPC - Association Connecting Electronics Industries，關于離子阱質譜分析的標準
- IPC TM-650 2.3.28B-2012 電路板的離子分析 離子色譜法
- IPC TM-650 2.3.28A-2004 電路板的離子分析 離子色譜法
US-ACEI，關于離子阱質譜分析的標準
- IPC TM-650 2.3.28-1995 電路板的離子分析離子色譜法
韓國科技標準局，關于離子阱質譜分析的標準
- KS M 0035-1993 離子色譜分析通則
- KS M 0035-2008(2023) 離子色譜分析通則
- KS M 0035-2023 離子色譜分析通用規則
- KS D ISO 18114-2020 表面化學分析 二次離子質譜法 離子注入標準物質相對靈敏度因子的測定
- KS D ISO 18114-2005(2020) 表面化學分析二次離子質譜法離子注入標準物質相對靈敏度因子的測定
- KS I ISO 17294-2014 電感耦合等離子體質譜（ICP-MS）在水質分析中的應用
- KS D ISO 22048-2020 表面化學分析靜態二次離子質譜的信息格式
- KS D ISO 17560-2003(2023) 表面化學分析-二次離子質譜分析-硅內硼深度分布測定場法
- KS D ISO 22048-2005(2020) 表面化學分析 - 靜態二次離子質譜的信息格式
- KS D ISO 22048:2005 表面化學分析.靜態次生離子質譜法的信息格式
日本工業標準調查會，關于離子阱質譜分析的標準
- JIS K 0157:2021 表面化學分析. 二次離子質譜法. 渡越時間二次離子質譜儀的質量標度的校準
- JIS K 0158:2021 表面化學分析. 二次離子質譜法. 單離子計數動態二次離子質譜法中飽和強度的校正方法
- JIS K 0127:2001 離子色譜法分析通則
- JIS K 0164:2023 表面化學分析二次離子質譜硅中硼深度分析方法
- JIS K 0127:1992 離子色譜儀分析通則
- JIS K 0127:2013 離子色譜法分析通則
- JIS K 0155:2018 表面化學分析 二次離子質譜法 單離子計數時間飛行質量分析儀中強度刻度的線性度
- JIS K 0153:2015 表面化學分析. 二次離子質譜法. 靜態二次離子質譜法中相對強度范圍的重復性和穩定性
- JIS K 0168:2011 表面化學分析.靜態二次離子質譜法用信息格式
工業和信息化部，關于離子阱質譜分析的標準
- YS/T 1496-2021 鈀化合物分析方法 雜質陰離子含量測定 離子色譜法
- YS/T 1497-2021 鉑化合物分析方法 雜質陰離子含量測定 離子色譜法
行業標準-教育，關于離子阱質譜分析的標準
- JY/T 0568-2020 電感耦合等離子體質譜分析方法通則
- JY/T 0575-2020 離子色譜分析方法通則
- JY/T 020-1996 離子色譜分析方法通則
美國材料與試驗協會，關于離子阱質譜分析的標準
- ASTM E1504-11 次級離子質譜分析法中報告質譜數據的標準操作規程
- ASTM UOP1031-19 通過 IC-ICP-MS（離子色譜-電感耦合等離子體質譜）對水中的鉻（III）和鉻（VI）進行形態分析
國家質檢總局，關于離子阱質譜分析的標準
- GB/T 25186-2010 表面化學分析.二次離子質譜.由離子注入參考物質確定相對靈敏度因子
- GB/T 43663-2024 表面化學分析 二次離子質譜 靜態二次離子質譜相對強度標的重復性和一致性
- GB/T 32495-2016 表面化學分析 二次離子質譜 硅中砷的深度剖析方法
美國電子電路和電子互連行業協會，關于離子阱質譜分析的標準
- IPC TM-650 2.3.28-2004 離子色譜法,電路板離子分析 修訂版A
意大利統一標準化組織，關于離子阱質譜分析的標準
- UNI 9813:1991 離子色譜法程序 通過離子色譜法和高壓液相色譜法進行陰離子分析
法國標準化協會，關于離子阱質譜分析的標準
- NF ISO 23830:2009 表面化學分析 二次離子質譜 二次離子靜態質譜中相對強度標度的重復性和穩定性
- NF ISO 17560:2006 表面化學分析 二次離子質譜分析 通過厚度分析確定硅中硼的劑量
德國標準化學會，關于離子阱質譜分析的標準
- DIN V ENV 13800:2000 鉛及鉛合金.無鉛基質分離的火焰原子吸收光譜(FAAS)分析法或感應耦合等離子體發射光譜(ICP-ES)分析法
AT-ON，關于離子阱質譜分析的標準
- ONORM M 6253 Teil.1-1985 水質分析．亞甲藍光譜法測定陰離子表面活化劑
