• <li id="ccaac"></li>
  • <table id="ccaac"><rt id="ccaac"></rt></table>
  • <td id="ccaac"></td>
  • <td id="ccaac"></td>
  • JC/T 2243-2014
    等離子體增強化學氣相沉積工藝用覆膜石英管

    Quartz tube covered in a film for PECVD


    JC/T 2243-2014




    購買全文,請聯系:


    標準號
    JC/T 2243-2014
    發布日期
    2014年10月14日
    實施日期
    2015年04月01日
    廢止日期
    中國標準分類號
    Q35
    國際標準分類號
    81.040.30
    發布單位
    行業標準-建材
    引用標準
    JC/T 2066-2011 JC/T 597-2011 JC/T 598
    代替標準
    KS B 4063-2014
    適用范圍
    本標準規定了等離子體增強化學氣相沉積工藝用覆膜石英管的術語和定義、材料、要求、試驗方法、檢驗規則以及標志、包裝、運輸和貯存。本標準適用于板式等離子體增強化學氣相沉積工藝用覆膜石英管(以下簡稱PE石英管)。

    JC/T 2243-2014相似標準


    推薦

    【北大成果】金屬表面等離子體處理技術及應用

    項目的意義現在金屬材料表面處理的技術有化學電鍍,物理氣法PVD、化學法CVD、堆焊、氧乙炔火焰噴涂、高能束涂法、自蔓延燃燒合成熱等離子體噴涂等方法。相對來說,熱等離子體噴涂是目前國內外最常用的金屬表面陶瓷涂層技術,但存在著涂層的組織呈粗大的片層狀、空隙度高,裂紋多,且涂層與基體間為機械結合容易剝落,抗沖擊性能差、不適合重載、沖擊和高應力工作條件等嚴重問題。...

    其他薄膜沉積設備的薄膜沉積技術分類

      薄膜沉積技術可以分為化學沉積(CVD)和物理氣沉積(PVD)。對于CVD工藝,這包括原子層沉積(ALD)和等離子體增強化學沉積(PECVD)。PVD沉積技術包括濺射,電子束和熱蒸發。CVD工藝包括使用等離子體將源材料與一種或多種揮發性前驅物混合以化學相互作用并使源材料分解。該工藝使用較高壓力的熱量,從而產生了更可再現的薄膜,其中薄膜厚度可以通過時間/功率來控制。...

    200項行業標準及78項行業標準樣品報批公示

    106?JC/T 2611-2020光纖芯棒制備用石英玻璃進、出氣管????本標準規定了光纖芯棒制備用石英玻璃進、出氣管的術語和定義、尺寸范圍、要求、試驗方法、檢驗規則及標志、包裝、運輸和貯存。????本標準適用于沉積法制備光纖芯棒和預制棒石英玻璃進、出氣管,其它領域石英玻璃管也可參照本標準。...

    【科普 】航天裝備材料表面處理工藝技術現狀與發展方向

    05沉淀????沉積是指利用相中發生的物理化學反應,在材料表面形成具有特種性能的金屬或化合物涂層的過程。按照成機理,可分為化學沉積、物理氣沉積等離子體沉積。????航天裝備中的一些微電子芯片、微波元器件常常利用化學沉積得到所需沉積薄膜,所涉及的材料大多數為硅、碳纖維、碳納米纖維、SiO2、氮化硅等材料。...


    JC/T 2243-2014 中可能用到的儀器設備





    Copyright ?2007-2022 ANTPEDIA, All Rights Reserved
    京ICP備07018254號 京公網安備1101085018 電信與信息服務業務經營許可證:京ICP證110310號



  • <li id="ccaac"></li>
  • <table id="ccaac"><rt id="ccaac"></rt></table>
  • <td id="ccaac"></td>
  • <td id="ccaac"></td>
  • 床戏视频