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  • GB/T 4058-2009
    硅拋光片氧化誘生缺陷的檢驗方法

    Test method for detection of oxidation induced defects in polished silicon wafers

    GBT4058-2009, GB4058-2009


    GB/T 4058-2009 中,可能用到以下儀器設備

     

    ELGA EDI可再生純水機

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    英國 ELGA LabWater威立雅水處理技術(上海)有限公司/威立雅/ELGA

     

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    頗爾(中國)有限公司 pall ForteBio

     

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    BG系列磨拋機

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    美國力可公司

     

    GR20粗磨機

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    SS1000磨拋機

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    實驗室級超純水器

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    實驗室超純水器

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    超純水機

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    保定蘭格恒流泵有限公司

     

    實驗室超純水機

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    實驗室超純水機

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    工業級超純水

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    超純水器6型

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    超純水器7型

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    北京同泰聯科技發展有限公司

     

    超純水器

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    北京同泰聯科技發展有限公司

     

    超純水器8型、超純水機、

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    北京普析通用儀器有限責任公司

     

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    普析GWB-1T/2T 1E/2E純水系統

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    北京普析通用儀器有限責任公司

     

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    arium advance EDI 純水系統

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    PALL Cascada IX實驗室超純水系統

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    GB/T 4058-2009

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    標準號
    GB/T 4058-2009
    別名
    GBT4058-2009
    GB4058-2009
    發布
    2009年
    總頁數
    19頁
    發布單位
    國家質檢總局
    當前最新
    GB/T 4058-2009
     
     
    引用標準
    GB/T 14264 GB/T 1554 YS/T 209
    被代替標準
    GB/T 4058-1995

    本標準規定了硅拋光氧化繡生缺陷的檢驗方法。 本標準適用于硅拋光片表面區在模擬器件氧化工藝中繡生或增強的晶體缺陷的檢測。 硅單晶氧化繡生缺陷的檢驗也可參照此方法。

    術語 
    硅晶體完整性 silicon crystal integrity
    化學擇優腐蝕 chemical preferential corrosion

    GB/T 4058-2009 中提到的儀器設備

    顯微鏡 用于觀察和分析硅片表面缺陷的光學或電子顯微鏡。
    腐蝕液制備設備 用于配制化學腐蝕液的精密設備,確保溶液濃度和比例符合要求。

    專題


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