ASTM F576-00
用橢圓對稱法測量硅襯底上絕緣體厚度及折射指數的標準試驗方法
Standard Test Method for Measurement of Insulator Thickness and Refractive Index on Silicon Substrates by Ellipsometry
說明：
- 此圖僅顯示與當前標準最近的5級引用；
- 鼠標放置在圖上可以看到標題編號；
- 此圖可以通過鼠標滾輪放大或者縮小；
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- 標準號
- ASTM F576-00
- 發布
- 2000年
- 發布單位
- 美國材料與試驗協會
- 替代標準
- ASTM F576-01
- 當前最新
- ASTM F576-01
- 引用標準
- ASTM C31/C31M ASTM D5127 ASTM E177 ASTM E284 ASTM F95
1.1 本測試方法涵蓋通過橢圓光度法測量在硅基板上生長或沉積的絕緣體的厚度和折射率。 1.2 本測試方法使用單色光。 1.3 本測試方法是非破壞性的，可用于測量厚度和折射率。任何基材上不吸收測量波長下的光的任何薄膜的折射率 (1) 對測量波長下的光不透明，以及 (2) 在測量波長下折射率和吸收系數均已知的材料。 1.4 該測試方法的精度會因小于光束光斑尺寸的...