GB/T 20176-2006
表面化學分析.二次離子質譜.用均勻摻雜物質測定硅中硼的原子濃度
Surface chemical analysis.Secondary-ion mass spectrometry.Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials
GBT20176-2006, GB20176-2006
- 標準號
- GB/T 20176-2006
- 別名
- GBT20176-2006
GB20176-2006 - 發布
- 2006年
- 采用標準
- ISO 14237:2000 IDT
- 發布單位
- 國家質檢總局
- 當前最新
- GB/T 20176-2006
- 引用標準
- ISO 5725-2:1994
- 本標準詳細說明了用標定的均勻摻雜物質（用注入硼的參考物質校準）確定單晶硅中硼的原子濃度的二次離子質譜方法。它適用于均勻摻雜硼濃度范圍從1×1016atoms/cm3～1×1020atoms/cm3。
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