GB/T 20176-2006
表面化學分析.二次離子質譜.用均勻摻雜物質測定硅中硼的原子濃度
Surface chemical analysis.Secondary-ion mass spectrometry.Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials
GB/T 20176-2006 中，可能用到以下儀器
- 標準號
- GB/T 20176-2006
- 發布日期
- 2006年03月27日
- 實施日期
- 2006年11月01日
- 廢止日期
- 無
- 中國標準分類號
- N33
- 國際標準分類號
- 71.040.40
- 發布單位
- CN-GB
- 引用標準
- ISO 5725-2-1994
- 適用范圍
- 本標準詳細說明了用標定的均勻摻雜物質（用注入硼的參考物質校準）確定單晶硅中硼的原子濃度的二次離子質譜方法。它適用于均勻摻雜硼濃度范圍從1×1016atoms/cm3～1×1020atoms/cm3。