先進柵疊層的在線光譜分析法

為了控制漏電流,保證先進柵結構等效柵氧化層（EOT）可以持續地等比例縮小，工業界開始應用鉿基高介電常數(高k)柵絕緣層介質，而這需要精確的工藝監控和控制。鉿基薄膜以及位于高k柵介質和硅襯底之間的界面層（IL）的厚度與組分的細微偏差，都將極大的影響到晶體管最終的電學性能。隨著器件按照摩爾定律快速地等比例縮小，如何便捷可靠地監控柵疊層薄膜的物理特性，成為量測技術的關鍵挑戰。