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伯東公司主要經營產品德國 Pfeiffer 渦輪分子泵, 干式真空泵, 羅茨真空泵, 旋片真空泵; 應用于各種條件下的真空測量(真空計, 真空規管);氦質譜檢漏儀；質譜分析儀；真空系統以及美國Brooks CTI Cryopump 冷凝泵/低溫泵, HVA 真空閥門, Polycold 冷凍機和美國KRI 離子源,Gamma離子泵. 網站: www.hakuto-vacuum.cn TEL: +86 (021) 5046-3511轉106 Fax : +86 (021) 5046-1490 E-mail: ec@hakuto-vacuum.cn

Hakuto 離子蝕刻機 10IBE 應用于碲鎘汞晶體電學特性研究

上一篇 / 下一篇 2020-12-01 16:09:23/ 個人分類：離子刻蝕機

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Hakuto 離子蝕刻機 10IBE 應用于碲鎘汞晶體電學特性研究

某研究機構采用Hakuto 離子蝕刻機 10IBE 對碲鎘汞晶體進行蝕刻, 并研究碲鎘汞晶體蝕刻后的電學特性.

Hakuto 離子蝕刻機 10IBE 技術參數:

基板尺寸	< Ф8 X 1wfr
樣品臺	直接冷卻（水冷）0-90 度旋轉
離子源	16cm 考夫曼離子源
均勻性	±5% for 4”Ф
硅片刻蝕率	20 nm/min
溫度	<100

Hakuto 離子刻蝕機 10IBE 離子源是配伯東公司代理美國考夫曼博士創立的 KRI考夫曼公司的考夫曼離子源 KDC 160

伯東美國 KRI 考夫曼離子源 KDC 160 技術參數：

離子源型號	離子源 KDC 160
Discharge	DC 熱離子
離子束流	>650 mA
離子動能	100-1200 V
柵極直徑	16 cm Φ
離子束	聚焦, 平行, 散射
流量	2-30 sccm
通氣	Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型壓力	< 0.5m Torr
中和器	燈絲

Hakuto 離子刻蝕機 10IBE 真空腔采用 Pfeiffer 渦輪分子泵 Hipace 700, 可抽的真空度 < 1 · 10-7 hpa, 良好的保持真空腔的真空度.

試驗利用遷移率譜分析了離子束刻蝕后的碲鎘汞晶體, 發現 180μm 的 p 型碲鎘汞晶體在刻蝕后完全轉為 n 型, 且由兩個不同電學特性的電子層組成:低遷移率的表面電子層和高遷移率的體電子層.

通過分析不同溫度下的遷移率譜, 表明表面電子層的遷移率不隨溫度而變化, 而體電子層的遷移率隨溫度的變化與傳統的n型碲鎘汞材料一致.

不同厚度下的霍爾參數表明體電子層的電學性質均勻.

另外,通過計算得到表面電子層的濃度要比體電子層高 2—3 個數量級.

若您需要進一步的了解詳細產品信息或討論 , 請參考以下聯絡方式 :

上海伯東 : 羅先生                               臺灣伯東 : 王小姐
T: +86-21-5046-1322                 T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049
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