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  • 伯東公司 主要經營產品德國 Pfeiffer 渦輪分子泵, 干式真空泵, 羅茨真空泵, 旋片真空泵; 應用于各種條件下的真空測量(真空計, 真空規管);氦質譜檢漏儀;質譜分析儀;真空系統以及美國Brooks CTI Cryopump 冷凝泵/低溫泵, HVA 真空閥門, Polycold 冷凍機和美國KRI 離子源,Gamma離子泵. 網站: www.hakuto-vacuum.cn TEL: +86 (021) 5046-3511轉106 Fax : +86 (021) 5046-1490 E-mail: ec@hakuto-vacuum.cn

    Hakuto 離子蝕刻機 7.5IBE 用于刻蝕硅微機械陀螺芯片

    上一篇 / 下一篇  2020-11-24 14:43:28/ 個人分類:離子刻蝕機

    某芯片實驗室為了解決芯片濕法刻蝕難以解決的橫向腐蝕問題, 引進伯東 Hakuto 離子蝕刻機 7.5IBE 用于刻蝕硅微機械陀螺芯片.

    Hakuto 離子蝕刻機 7.5IBE 技術規格:

    真空腔

    1 set, 主體不銹鋼,水冷

    基片尺寸

    1 set, 4”/6”? Stage, 直接冷卻,

    離子源

    ? 8cm 考夫曼離子源 KDC75

    離子束入射角

    0 Degree± 90 Degree

    極限真空

    1x10-4 Pa

    刻蝕性能

    一致性: ≤±5% across 4”

     

    該實驗室采用的 Hakuto 離子刻蝕機 7.5IBE 的核心構件離子源是配伯東公司代理美國 考夫曼博士創立的 KRI考夫曼公司的考夫曼離子源 KDC 75

    伯東美國 KRI 考夫曼離子源 KDC75 技術參數:

     離子源型號

     離子源 KDC 75 

    Discharge

    DC 熱離子

    離子束流

    >250 mA

    離子動能

    100-1200 V

    柵極直徑

    7.5 cm Φ

    離子束

    聚焦平行散射

    流量

    2-15 sccm

    通氣

    Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

    典型壓力

    < 0.5m Torr

    長度

    20.1 cm

    直徑

    14 cm

    中和器

    燈絲

    可選一個陰極燈絲可調角度的支架

     

    試驗結果:

    Hakuto 離子刻蝕機 7.5IBE 刻蝕出的芯片表面平整、光滑,解決了濕法刻蝕難以解決的橫向腐蝕問題,并提高了刻蝕速率。

     

    若您需要進一步的了解詳細產品信息或討論

    TAG: Hakutohakuto離子蝕刻機

     

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    • 更新時間: 2021-05-18

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