伯東公司 主要經營產品德國 Pfeiffer 渦輪分子泵, 干式真空泵, 羅茨真空泵, 旋片真空泵; 應用于各種條件下的真空測量(真空計, 真空規管);氦質譜檢漏儀；質譜分析儀；真空系統以及美國Brooks CTI Cryopump 冷凝泵/低溫泵, HVA 真空閥門, Polycold 冷凍機和美國KRI 離子源,Gamma離子泵.
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Hakuto 離子蝕刻機 10IBE 用于提升碳化硅微光學元件的品質
上一篇 / 下一篇 2020-11-23 15:55:12/ 個人分類：離子刻蝕機
某光學元件制造商為了優化碳化硅微光學元件, 降低碳化硅微光學元件表面粗糙度, 采用 Hakuto 離子蝕刻機 10IBE 對其進行優化.
Hakuto 離子蝕刻機 10IBE技術參數:
基板尺寸 | < Ф8 X 1wfr |
樣品臺 | 直接冷卻（水冷）0-90 度旋轉 |
離子源 | 16cm |
均勻性 | ±5% for 4”Ф |
硅片刻蝕率 | 20 nm/min |
溫度 | <100 |
該制造商采用的 Hakuto 離子刻蝕機 10IBE 的核心構件離子源是配伯東公司代理美國 考夫曼博士創立的 KRI考夫曼公司的考夫曼離子源 KDC 160
伯東美國 KRI 考夫曼離子源 KDC 160 技術參數：
離子源型號 | |
Discharge | DC 熱離子 |
離子束流 | >650 mA |
離子動能 | 100-1200 V |
柵極直徑 | 16 cm Φ |
離子束 | 聚焦, 平行, 散射 |
流量 | 2-30 sccm |
通氣 | Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
典型壓力 | < 0.5m Torr |
長度 | 25.2 cm |
直徑 | 23.2 cm |
中和器 | 燈絲 |
* 可選: 可調角度的支架
Hakuto 離子刻蝕機 10IBE 配的是 Pfeiffer 渦輪分子泵 Hipace 700, 可抽的真空度 < 1 · 10-7 hpa, 良好的保持刻蝕室的真空度.
其產品優勢:
