本標準規定了使用全反射X光熒光光譜,定量測定硅拋光襯底表面層的元素面密度的方法。本標準適用于硅單晶拋光片、外延片(以下稱硅片),尤其適用于硅片清洗后自然氧化層,或經化學方法生長的氧化層中沾污元素面密度的測定,測定范圍為109 atoms/cm2~1015 atoms/cm2
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