DIN 32566:2007
微型系統用生產設備.X射線光刻掩膜支持環用規范
Production equipment for microsystems - Specification for an X-Ray Lithography Mask Support Ring
DIN 32566:2007 發布歷史
DIN 32566:2007由德國標準化學會 DE-DIN 發布于 2007-12。
DIN 32566:2007 在中國標準分類中歸屬于: N38 光學設備，在國際標準分類中歸屬于: 31.020 電子元器件綜合,37.020 光學設備。
DIN 32566:2007 微型系統用生產設備.X射線光刻掩膜支持環用規范的最新版本是哪一版？
最新版本是 DIN 32566:2007-12 。
DIN 32566:2007 發布之時，引用了標準
- DIN EN ISO 1101 產品幾何技術規范(GPS) 幾何公差 形狀、方位、定位和偏轉公差
- DIN EN ISO 8734 平行銷 由硬化鋼和馬氏體不銹鋼制成（定位銷）*， 2019-05-01 更新
* 在 DIN 32566:2007 發布之后有更新，請注意新發布標準的變化。
DIN 32566:2007的歷代版本如下：
- 2007年 DIN 32566:2007-12 微系統生產設備 X射線光刻掩模支撐環規范
- 2007年 DIN 32566:2007 微型系統用生產設備.X射線光刻掩膜支持環用規范
- 標準號
- DIN 32566:2007
- 發布
- 2007年
- 發布單位
- 德國標準化學會
- 替代標準
- DIN 32566:2007-12
- 當前最新
- DIN 32566:2007-12
- 引用標準
- DIN EN ISO 1101 DIN EN ISO 8734
DIN 32566:2007相似標準
推薦
微流控技術原理及起源
MEMS技術全稱Micro Electromechanical System ， MEMS設想是由諾貝爾物理學獎獲得者Richard Feynman教授于1959年提出，其基本概念是用半導體技術，將現實生活中的機械系統微型化，形成微型電子機械系統，簡稱微機電系統。 1962年全球第一款微型壓力傳感器面世，這一創新產品后來被應用于汽車安全（輪胎壓力檢測）和醫療（有創血壓計），開啟了MEMS時代。...
微流控技術起源及原理解析
MEMS技術全稱Micro Electromechanical System ， MEMS設想是由諾貝爾物理學獎獲得者Richard Feynman教授于1959年提出，其基本概念是用半導體技術，將現實生活中的機械系統微型化，形成微型電子機械系統，簡稱微機電系統。...
微流控技術原理及發展史（二）
掩膜的基本功能是基片受到光束照射時，在圖形區和非圖形區產生不同的光吸收和透過能力。用計算機制圖系統將掩模圖形轉化為數據文件，再通過專用接口電路控制圖形發生器中的曝光光源、可變光闌、工作臺和鏡頭，在掩模材料上刻出所需的圖形。或用微機通過CAD軟件將設計微通道的結構圖轉化為圖像文件后，用高分辨率的打印機將圖像打印到透明薄膜上。此透明薄膜可作為光刻用的掩模，基本能滿足微流控芯片對掩模的要求。...