GB/T 41751-2022
氮化鎵單晶襯底片晶面曲率半徑測試方法
Test method for radius of curvature of crystal plane in GaN single crystal substrate wafers
GBT41751-2022, GB41751-2022
GB/T 41751-2022 中，可能用到以下儀器設備
- 標準號
- GB/T 41751-2022
- 別名
- GBT41751-2022
GB41751-2022 - 發布
- 2022年
- 發布單位
- 國家質檢總局
- 當前最新
- GB/T 41751-2022
- 引用標準
- GB/T 14264
- 本文件規定了利用高分辨X射線衍射儀測試氮化鎵單晶襯底片晶面曲率半徑的方法。 本文件適用于化學氣相沉積及其他方法制備的氮化鎵單晶襯底片晶面曲率半徑的測試,氮化鎵外延片晶面曲率半徑的測試可參照本文件進行。
GB/T 41751-2022相似標準
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