GB/T 39145-2020
硅片表面金屬元素含量的測定 電感耦合等離子體質譜法
Test method for the content of surface metal elements on silicon wafers—Inductively coupled plasma mass spectrometry
GBT39145-2020, GB39145-2020
GB/T 39145-2020 中，可能用到以下儀器設備
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- 標準號
- GB/T 39145-2020
- 別名
- GBT39145-2020
GB39145-2020 - 發布
- 2020年
- 發布單位
- 國家市場監督管理總局、中國國家標準化管理委員會
- 當前最新
- GB/T 39145-2020
- 引用標準
- GB/T 14264 GB/T 17433 GB/T 19921 GB/T 25915.1 GB/T 37837 GB/T 6624 JJF 1159
本標準規定了電感耦合等離子體質譜法測定硅片表面金屬元素含量的方法。 本標準適用于硅單唱拋光片和硅外延片表面痕量金屬鈉、鎂、鋁.鉀、鈣.鉻.錳.鐵、鉆、錦、銅、鋅元素含量的測定,測定范圍為 10 cm 一10 cm“。本標準同時也適用于硅退火片、硅擴散片等無圖形 硅片表面痕量金屬元素含量的測定。 注: 硅片表面的金屬元素含量以每平方厘米的原子數計。
專題
GB/T 39145-2020相似標準
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