高純度晶體材料,具有完整晶格結構,主要成分為單質硅。作為半導體基礎材料,廣泛應用于電子器件制造,特別是集成電路芯片的生產。
標準號 & 類別 | 標準名稱 | 發布 |
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ASTM F397-02 試驗 |
Silicon rod two-electrode probe resistivity test method
電阻率 |
2002 美國材料與試驗協會 |
GB/T 12962-2015 試驗標準 |
Silicon single crystal
|
2017-01-01 國家質檢總局 |
GB/T 13389-1992 CF |
Practice for conversion between resistivity and dopant density for boron-doped and phosphorus-doped silicon
電阻率 |
1992-02-19 國家質檢總局 |
GB/T 13389-2014 試驗/規范 |
Practice for conversion between resistivity and dopant density for boron-doped, phosphorus-doped, and arsenic-doped silicon
|
2014-12-31 國家質檢總局 |
GB/T 1551-2021 試驗/規范標準 |
Test method for measuring resistivity of monocrystal silicon—In-line four-point probe and direct current two-point probe method
電阻率 |
2021-05-21 國家質檢總局 |
GB/T 1557-2018 試驗 |
Test method for determining interstitial oxygen content in silicon by infrared absorption
紅外光譜法 |
2018-09-17 國家質檢總局 |
GB/T 29504-2013 規范 |
300 mm monocrystalline silicon
電阻率 |
2013-05-09 國家質檢總局 |
GB/T 30453-2013 試驗 |
Metallographs collection for original defects of crystalline silicon
硅片 |
2013-12-31 國家質檢總局 |
GB/T 35306-2023 試驗 |
Determination of Carbon and Oxygen Content in Silicon Single Crystal Low Temperature Fourier Transform Infrared Spectroscopy
|
2023-08-06 國家質檢總局 |
GB/T 42263-2022 |
Determination of nitrogen content in silicon single crystal—Secondary ion mass spectrometry method
氮含量 |
2022-12-30 國家質檢總局 |
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