VDI/VDE 5575 Blatt 2-2015
射線光學系統 測量方法 用于評估 X 射線光學系統的測量裝置和方法
X-ray optical systems - Measurement methods - Measurement set-up and methods for the evaluation of X-ray optical systems
點擊查看大圖
- 標準號
- VDI/VDE 5575 Blatt 2-2015
- 發布
- 2015年
- 發布單位
- 德國機械工程師協會
- 替代標準
- VDI/VDE 5575 BLATT 2-2019
- 當前最新
- VDI/VDE 5575 BLATT 2-2019
- 引用標準
- DIN 5030-1:1985 DIN 5030-3:1984 DIN EN 12543-1:1999 DIN EN 12543-2:2008 DIN EN 12543-5:1999 DIN EN ISO 11146-1:2005 DIN EN ISO 15367-2:2005 VDI 1000-2010 VDI/VDE 5575 Blatt 1-2009 VDI/VDE 5575 Blatt 4-2011 VDI/VDE 5575 Blatt 8-2013
- 被代替標準
- VDI/VDE 5575 Blatt 2-2013
該標準描述了評估 X 射線光學系統的測量設置和方法。描述了表征 X 射線幾何特性的方法及其光譜分析方法。定義了用于明確描述測量設置的坐標系。指定了適合不同測量任務的定位和探測器系統。概述了常見的 X 射線源。描述了與其測量相關的不同 X 射線源的典型特性。