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BS ISO 14706:2014
表面化學分析.采用全反射X射線熒光(TXRF)光譜法對硅片表面元素污染物的測定

Surface chemical analysis. Determination of surface elemental contamination on silicon wafers by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy

BS ISO 14706:2014 中，可能用到以下耗材

MappIRAutomatedSemiconductorWaferAccessoryfor8英寸Wafers

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標準號: BS ISO 14706:2014
發布: 2014年
發布單位: 英國標準學會
當前最新: BS ISO 14706:2014

引用標準: ISO 14644-1 ISO 5725-2:1994
被代替標準: BS ISO 14706:2000

專題

全反射熒光x射線分析全反射x射線熒光分析全反射x射線熒光分析全反射x熒光分析 txrf 元素硅表面元素分析

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