半導體、電子行業是目前世界上要求最高標準的超純水用戶。超出水制造技術的發展極大地推動了半導體和電子工業的技術進度。同時半導體、電子工業的迅速發展促進了超純水制造技術裝備的發展。 ...
2、應用需求高 在電子工業用水和進行ppt級的痕量分析實驗用水都要求將超純水的硅含量降到最低。在半導體/FPD工藝中,超純水中硅的濃度會給產品精度、成品率和原材料利用率帶來很大影響。在進行ppt級的痕量分析中,硅作為一種弱電離離子,其含量的變化對電阻率的影響甚小,所以不容易被發覺。在現有純化技術中, RO對硅的去除率可以達到80%,EDI對硅的去除率可以達到99%[1]。...
半導體工藝用高純水中硅、硼的去除[J].?電子學報, 2005, 33(2):197-199....
TOC儀將會逐漸成為超純水機的標準配置超純水機大致分為預處理、反滲透、超純化、終端超濾四個單元:1. 自來水首先通過預處理單元,去除水中較大的顆粒、懸浮物以及部分有機物。2. 進入反滲透單元,對水中的離子物質和大分子物質(如病毒、微生物等)進行截留性去除。3. 再經過純化和超純化單元,對經過膜去除后殘余的微少離子進行純化和超純化,使水中的離子含量降低到痕量水平。4....
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