四、真空法 這種方法是在高真空狀態下令材料氣化或離子化沉積于工件表面而形成鍍層的過程。其主要方法是。 （一）物理氣相沉積（PVD） 在真空條件下，將金屬氣化成原子或分子，或者使其離子化成離子，直接沉積到工件表面，形成涂層的過程，稱為物理氣相沉積，其沉積粒子束來源于非化學因素，如蒸發鍍濺射鍍、離子鍍等。 ...
?持久化學改進劑沉積在W,Zr碳化物涂層原子化器表面,改進劑分散更細和分布更均勻,可以改善PGM的催化效應;延長改進劑和石墨管的使用壽命,具有更好的長期穩定性;能提高分析物的熱解溫度;節省PGM用量,只相當于常規熱解還原沉積法用量的1/100～1/50,縮短了分析時間。A.B....
Slavin對石墨管難熔金屬碳化物涂層方面的文獻作了歸納,涂層包括Hf,La,Mo,Nb,Ta,Ti,Zr,W和Y等。實際上,這些涂層雖然只是簡單地改善了表面,修補了熱解石墨層的缺陷,卻能有針對性地解決問題,這也是此項技術廣泛受到分析者青睞和歡迎的原因。難熔金屬碳化物涂層一般分為兩大類①物理蒸發沉積法;②溶液處理法(又分為在常壓條件下的溶液處理法和在增壓或減壓條件下的溶液處理法)。...
二、幾種常用的石墨管改進方法1、熱解涂層石墨管熱解涂層是目前對普通石墨管原子化器改性的最好、最適用的一種方法,工業化生產熱解涂層石墨管是在爐溫保持2000～2300℃和一定的真空度,在抽氣的條件下,通入用氬氣或氮氣稀釋的烴類化合物氣體(如甲烷、丙烷),這些氣體裂解后生成菱形片狀的三維晶體沉積在普通石墨管上,碳沉積速度控制在≤0.1mm/h。...
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