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GB/T 19444-2004
硅片氧沉淀特性的測定-間隙氧含量減少法

Oxygen precipitation characterization of silicon wafers by measurement of interstitial oxygen reduction

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標準號: GB/T 19444-2004
發布日期: 2004年02月05日
實施日期: 2004年07月01日
廢止日期: 無
中國標準分類號: H26
國際標準分類號: 29.040.01
發布單位: CN-GB

適用范圍: 本標準規定了由測量硅片間隙氧含量的減少量來檢驗硅片氧沉淀特性的方法原理、取樣規則、熱處理程序、試驗步驟、數據計算等內容。本標準用于定性比較兩批或多批集成電路用硅片間隙氧沉淀特性。

GB/T 19444-2004系列標準

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