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BS ISO 14606:2000
表面化學分析.濺射深度剖面測定.采用作為參考材料的成層系統最優化

Surface chemical analysis - Sputter depth profiling - Optimization using layered systems as reference materials

被代替

2015-12

標準號: BS ISO 14606:2000
發布: 2001年
發布單位: 英國標準學會
替代標準: BS ISO 14606:2015; BS ISO 14606:2001
當前最新: BS ISO 14606:2022

被代替標準: 99/121064 DC:1999

適用范圍: 本國際標準為使用適當的單層和多層參考材料優化濺射深度分析參數提供了指導，以便根據俄歇電子能譜、X射線光電子能譜和二次離子質量中的儀器設置實現最佳深度分辨率光譜測定法。本國際標準無意涵蓋特殊多層系統（例如δ摻雜層）的使用。

BS ISO 14606:2000相似標準

KS D ISO 14606:2003 表面化學分析.濺射深度剖面測定.作為參考材料的層系統最優化 BS ISO 14606:2022 表面化學分析濺射深度剖析使用分層系統作為參考材料進行優化 GB/T 30704-2014 表面化學分析 X射線光電子能譜分析指南 21/30440164 DC BS ISO 14606 表面化學分析濺射深度剖析使用分層系統作為參考材料進行優化 ISO 14606:2022 表面化學分析.濺射深度輪廓.使用分層系統作為參考材料的優化

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