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    centrotherm SiC和GaN退火及石墨烯生長 Activator150

    價格:面議
    品牌:布魯克 產地:德國 型號:centrotherm SiC和GaN退火及石墨烯生長 Activator150 樣本:來電或留言獲取樣本
    常見問題
    • centrothermSiC和GaN退火及石墨烯生長Activator150價格? 可以檢測什么?
    • centrothermSiC和GaN退火及石墨烯生長Activator150參數規格? 配套的耗材試劑?
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    詳細介紹

    centrotherm   SiC和GaN退火及石墨烯生長 Activator150

    圖片4.png

    centrotherm Activator 150 高溫爐生產線專為硅-碳化合物(SiC)或鎵-氮化合物(GaN) 設備的后植入燒結而設計開發。Activator 150 可用于多種類型爐體, 如研發爐和批量生產爐, 且處理靈活性高。centrotherm 的無金屬加熱裝置的獨特設計允許處理溫度高達 1850 °C 同時縮短了工藝循環時間。由于占據空間小、購置成本低,所以 Activator 150 可實現生產具有成本效益。

     

    特點:

    高活化率

    表面粗糙程度最小

    溫度最高達 1850°C

    批量規模高達 50硅片(150mm)

    加熱率最高達 150 K/min

    通過SiH4可實現硅“過壓

     

     

     

     

     

     

    Centrotherm 小批暈生產用垂直爐管CLV200,科研專屬

    CLV200 小批暈生產用垂直爐管

    I 適用于砫襯底的半導體集成電路的生產

     

    centrotherm C LV 200 是一個獨立的小批量晶圓 生產設備,能實現各項熱處理工藝,適用于少量生產及 研發。

    cent rot herm 工藝反應 腔體及加熱系統有著獨特的設計, zui高升溫至 11 00 攝氏度。由于一爐尺寸較小(一批至多 50 片晶圓), CLV 200 爐管能提供 非常靈活的常壓及低壓工藝,降低顧客研發費用。

    cent rot herm 的設計在高效, 低耗上非常出色, 同時也具備了生產各種半導體器件的工藝靈活性。

     

    常壓工藝退火

    氧化

    擴散LPCVD PECVD

     Zui高溫度可達 11 00° C

    凈化間占用面積小 [1.6 m叮

    售 批量生產 100 mm 至200 mm 晶圓售 一批最高可處理 50 片晶圓

    售 全自動 cassette -to-cassette 傳片


    centrotherm SiC和GaN退火及石墨烯生長 Activator150由北京亞科晨旭科技有限公司 為您提供,如您想了解更多關于 centrotherm SiC和GaN退火及石墨烯生長 Activator150報價、參數等信息 ,歡迎來電或留言咨詢。

    注:該產品未在中華人民共和國食品藥品監督管理部門申請醫療器械注冊和備案,不可用于臨床診斷或治療等相關用途。

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