掃描電子顯微鏡——JSM-6490LV型

　　掃描電子顯微鏡(SEM)技術，使人類觀察微小物質的能力發生質的飛躍，依靠掃描電子顯微鏡的高分辨率、良好的景深和簡易的操作方法，使掃描電子顯微鏡(SEM)迅速成為一種不可缺少的工具,并且廣泛應用于科學研究和工程實踐中。

　　

 

　　1.主要性能

　　掃描電鏡是在加速高壓作用下，將電子槍發射的電子經過多級電磁透鏡匯集成細小的電子束。在試樣表面進行掃描，激發出各種信息，通過對這些信息的接收、放大和顯示成像，以便對試樣表面進行分析。

　　2. 技術指標

　　分辨率： 小于3.0nm (30kV，高真空，鎢燈絲，二次電子);

　　小于4.0nm(鎢燈絲，背散射電子);

　　加速電壓最小范圍：0.5～30KV， 10V/步 ;

　　放大倍數范圍：20～300,000 倍;

　　真空系統：高真空度：1.5×10-3Pa;低真空度：6～270Pa;

　　電子束掃描控制： 掃描模式：點、線、面、選區;

　　能譜儀Si(Li)探測器：分辨率優于133eV;

　　能譜探測器的有效面積：10mm2;

　　能譜元素分析范圍：B5～U92。

　　3.應用范圍

　　掃描電子顯微鏡廣泛應用于醫學、生物學、化工、地質、金屬、陶瓷、半導體、納米材料等各領域。掃描電子顯微鏡在材料的分析和研究方面應用十分廣泛，主要應用于材料斷口分析、微區成分分析、各種鍍膜表面形貌分析、層厚測量和顯微組織形貌及納米材料分析等。隨著材料科學和高科技的迅速發展，掃描電鏡在得到較好的試樣形貌像的前提下，同時得到成分信息和晶體學的信息，使得掃描電鏡必將在材料工藝研究和品種開發等方面發揮更大的作用.

　　4.樣品要求

　　樣品必須是固體，且無毒、無放射性、無污染、無磁、無水分;成分穩定,塊狀樣品大小要適中, 樣品直徑：小于200mm，樣品高度：小于75mm;粉末樣品要進行特殊處理;對不導電和導電性能差的樣品要進行鍍膜。