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  • X熒光光譜儀分析硅鐵熔融制樣方法研究

    上一篇 / 下一篇  2014-11-06 15:13:51/ 個人分類:X熒光光譜儀

            在X熒光光譜儀分析中,氧化物的硼酸鹽熔融制樣技術由于消除了樣品的粒度效應和礦物效應,同時樣品被稀釋,又大大降低了不同元素間的相互干擾,被認為是X射線熒光分析中最精確的制樣方法,該方法結果準確可靠。
            1、存在問題
            熔融制樣需要在鉑金坩堝內進行,而單質類物質如硅鋁碳和鐵等在高溫時可以和鉑形成共融物,嚴重腐蝕鉑金坩堝,含量為95%鉑+5%金的鉑黃坩堝作為貴重物品,在制樣過程中尤其要保證其絕對安全,故合金類樣品要想熔融制樣,一般均采用離心澆注機制成玻璃融片,離心澆注機價格昂貴,大大提高試樣分析成本。
    對于合金樣品,如果進行充分的預氧化,使單質類物質轉變為氧化態后,就可以經高溫熔融制取出玻璃熔片,從而實現鐵合金的熔融制樣分析。單質硅和鋁都可以和強堿反應,生產相應的硅酸鹽和鋁酸鹽,可以很容易地把用傳統氧化劑很難氧化的單質硅氧化,然后進一步熔融制成均勻完美的玻璃融片。
            2、氧化劑的選擇
            在選用氧化劑中,用了LiOH而 非NaOH,這是因為,第一,NaOH在空氣中發生潮解,很難用分析天平準確稱量,不具備準確稱量的條件,而LiOH吸潮性很弱,完全可實現準確稱量;第二,LiOH中Li元素的原子系數很低,對X射線的吸收很小,不會對其它元素產生干擾和影響。
            3、熔劑試劑的空白
            X熒光分析具有它的特殊性,X射線管衰減率較低,儀器穩定性好,一般繪制好的工作曲線,應用一年以上是正常的,而我們采用X熒光熔融分析,使用的熔劑脫模劑等每天都在消耗,尤其是大批量進廠檢驗,熔劑試劑消耗量較大,不可能采用優級純或光譜純等試劑,同時,正常的熔樣,熔劑量是試樣量的8~12倍,試劑中被測成分新的含量不可忽視,有時SiO2 Fe等成分出現系統偏高或偏低,為此,對使用的不同廠家不同批次的試劑,熔劑中雜質成分有很大的差異,采用一家的熔劑,每一批熔劑作驗收試驗,差異較大的及時校正工作曲線,以保證熒光分析的準確性。
            4、樣品的粒度
            作為熔融分析,樣品的粒度對熔融效果有一定的影響,樣品粒度較小,總的表面積較大,與熔劑接觸的幾率增大,熔融的速度加快,否則,熔樣不完全,造成成分不均勻而影響分析結果 但過度要求樣品很細的粒度,勢必增加制樣的難度,選用固定制樣量和制樣時間,進行熔樣時間試驗,選擇最佳熔樣方法,嚴格控制熔樣條件,保證了熔樣效果。
            5、操作步驟
            (1) 坩堝掛壁
            在坩堝掛壁中,首先用熔劑在鉑金坩堝內形成一層保護膜,然后在保護膜內進行樣品的預氧化,有效防止硅鐵對鉑金坩堝的侵蝕,脫模劑用量和冷卻前的搖動是坩堝掛壁的主要影響因素,經過大量實驗發現,采用6.0000g四硼酸鋰,加入5滴50%的碘化鉀溶液,在1000℃下靜熔4min,動熔6min,取出后緩慢旋轉坩堝,可以使熔劑均勻掛壁,從而在坩堝內形成一層保護膜。
            (2) 硅鐵樣品預氧化
            在樣品預氧化階段,該階段關鍵點在于溫度的控制,溫度過低,反應速度太慢; 溫度太高,反應太劇烈而不易控制,發生噴濺甚至導致爆炸致使混合物崩出坩堝外 經過試驗,采用固體氫氧化鋰,在電熱板上加熱1~2min,保證有合適的溫度促使反應發生,采用緩慢滴加蒸餾水的辦法控制整個反應過程,確保氧化在3min完成在樣品用量上,單質硅作為一類用傳統固體氧化劑很難氧化的物質,試樣的用量不宜太多,經反復試驗其它品種的鐵合金可以稱量至0.2g,對硅鐵來說,稱量0.1g就可以了,超過0.1g有氧化不完全,發生腐蝕坩堝的危險。
            (3) 硅鐵樣品熔融
            待預氧化反應結束后,加入0.500g碳酸鋰1.000g硼酸,在電爐上( 溫度200~300℃) 加熱蒸干剩余水分( 控制電爐溫度,使反應過程不要太劇烈,時間在10~15min) , 使氧化反應更加完全 冷卻后,在坩堝內加入5滴50%的碘化鉀溶液,將坩堝在960℃靜熔6min,動熔12min,取出冷卻后倒出熔片待分析使用。
            本文轉載自北京卓信博澳儀器有限公司官網:http://www.zxba.com/xrfjs/258.html

    TAG: x熒光

     

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