磁控濺射類石墨鍍層結構的Raman 光譜和XPS 分析

摘要：
利用非平衡磁控濺射離子鍍技術在單晶硅片上沉積了類石墨碳鍍層,采用X 射線衍射（XRD） 、激光Raman 光譜和X 射線光電子能譜（XPS） 等分析方法對鍍層的微觀結構進行了研究。結果表明：不同成份類石墨碳鍍層的Raman 光譜與寬化的多晶石墨Raman 光譜相似,類石墨碳鍍層是以sp2 鍵結構為主，且含有多種納米團簇顆粒的非晶鍍層，sp3 鍵含量在12～15 %范圍；根據高斯解譜計算,鍍層中碳團簇線度為1. 2 nm 以下，并隨鉻含量增高而減小；鍍層主要由單質碳、鉻及其鉻氧化物組成，并隨鉻含量增高，逐步有碳鉻化合物形成。