基質輔助激光解吸電離飛行時間質譜在聚合物表征中的應用

《質譜學報》2008年01期    
 
  基質輔助激光解吸電離飛行時間質譜在聚合物表征中的應用
  王曉青;陳栓虎
  　　綜述了基質輔助激光解吸電離飛行時間質譜(MALDI-TOF MS)的基本原理,基質選擇和樣品制備方法、分析離子化試劑等因素對實驗結果的影響,以及造成質量歧視的原因。并闡述了MALDI技術在確定聚合物相對分子質量分布,聚合物末端基團,共聚物組成和推斷反應及降解機理上的應用。
【作者單位】：西北大學化學系 陜西西安710069
【關鍵詞】：基質輔助激光解吸電離飛行時間質譜;聚合物;分子量;末端基
【分類號】：O657.63;O631.3
【DOI】：CNKI:SUN:ZPXB.0.2008-01-013
【正文快照】：
　　近年來,利用質譜技術研究高分子聚合物結構的方法越來越受到重視。基質輔助激光解吸電離(matrix-assisted laser desorption ioniza-tion,MALDI)和電噴霧電離(electrospray ioni-zation,ESI)技術的發展使得質譜能夠精確分析高聚物相對分子質量分布、重復單元、末端基團、重復單