f) 場效應晶體管檢波器: CMOS 工藝由于其較低的成本和高集成度, 受到國內外研究人員的廣泛關注. 近些年, 基于CMOS 工藝的太赫茲檢波技術取得了顯著進展. 早期的一些研究中已將場效應晶體管應用于太赫茲檢波中,而近期的一些研究中已逐步發展到檢波陣列并且集成在THz CMOS 單芯片中。...
研究表明,此方法適用于多種聚合物OFET,具有較好的普適性。有關結果發表在Adv. Mater., 2010, 22, 1273-1277上。 頂柵結構器件是改善器件穩定性的途徑之一,研究人員開發了新的頂柵結構器件制備技術,主要包括自支撐(self-supporting)絕緣層的制備,以及自支撐絕緣層與半導體層之間自發的干法層合(圖2)。...
作為新一代功率半導體材料,氧化鎵的p型摻雜目前尚未解決,氧化鎵場效應晶體管面臨著增強型模式難以實現和功率品質因數難以提升等問題,因此急需設計新結構氧化鎵垂直型晶體管。 研究人員分別采用氧氣氛圍退火和氮離子注入工藝制備了器件的電流阻擋層,并配合柵槽刻蝕工藝研制出了不需P型摻雜技術的氧化鎵垂直溝槽場效應晶體管結構。...
除此之外,研究人員還嘗試了引入碳納米管替代傳統金屬作為柵極材料,結果顯示該材料比傳統金屬柵具有更好的包覆性,可以有效提高器件性能。理論計算表明,研究人員所提出的鰭式場效應晶體管能夠實現優異的抗短溝道效應。 ...
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