• <li id="ccaac"></li>
  • <table id="ccaac"><rt id="ccaac"></rt></table>
  • <td id="ccaac"></td>
  • <td id="ccaac"></td>
  • IEC 60747-8-1:1987
    半導體器件 分立器件 第8部分:場效應晶體管 第1節:5W、1GHz以下的單柵場效應晶體管空白詳細規范

    Semiconductor devices - Discret devices. Part 8: Field-effect transistors. Blank detail specification for single-gate field-effect transistors, up to 5 W and 1 GHz.


    標準號
    IEC 60747-8-1:1987
    發布
    1987年
    發布單位
    國際電工委員會
    當前最新
    IEC 60747-8-1:1987
     
     
    適用范圍
    適用于場效應晶體管的質量評估。給出了具體要求(包含在 IECQ 系統的 QC 750112 中),代表了高達 5 W 和 1 GHz 的單柵極場效應晶體管的空白詳細規范。

    IEC 60747-8-1:1987相似標準


    推薦

    毫米波與太赫茲技術

    f) 場效應晶體管檢波器: CMOS 工藝由于其較低成本和高集成度, 受到國內外研究人員廣泛關注. 近些年, 基于CMOS 工藝太赫茲檢波技術取得了顯著進展. 早期一些研究中已將場效應晶體管應用于太赫茲檢波中,而近期一些研究中已逐步發展到檢波陣列并且集成在THz CMOS 芯片中。...

    化學所在有機場效應晶體管研究方面取得系列進展

    研究表明,此方法適用于多種聚合物OFET,具有較好普適性。有關結果發表在Adv. Mater., 2010, 22, 1273-1277上。  頂結構器件是改善器件穩定性途徑之一,研究人員開發了新結構器件制備技術,主要包括自支撐(self-supporting)絕緣層制備,以及自支撐絕緣層與半導體層之間自發干法層合(圖2)。...

    我國科研人員為氧化鎵晶體管找到新結構方案

    作為新一代功率半導體材料,氧化鎵p型摻雜目前尚未解決,氧化鎵場效應晶體管面臨著增強型模式難以實現和功率品質因數難以提升等問題,因此急需設計新結構氧化鎵垂直型晶體管。 研究人員分別采用氧氣氛圍退火和氮離子注入工藝制備了器件電流阻擋層,并配合槽刻蝕工藝研制出了不需P型摻雜技術氧化鎵垂直溝槽場效應晶體管結構。...

    全球首個原子層溝道鰭式場效應晶體管問世

    除此之外,研究人員還嘗試了引入碳納米管替代傳統金屬作為柵極材料,結果顯示該材料比傳統金屬具有更好包覆性,可以有效提高器件性能。理論計算表明,研究人員所提出鰭式場效應晶體管能夠實現優異抗短溝道效應。  ...





    Copyright ?2007-2022 ANTPEDIA, All Rights Reserved
    京ICP備07018254號 京公網安備1101085018 電信與信息服務業務經營許可證:京ICP證110310號

  • <li id="ccaac"></li>
  • <table id="ccaac"><rt id="ccaac"></rt></table>
  • <td id="ccaac"></td>
  • <td id="ccaac"></td>
  • 床戏视频