DIN ISO 10110-7:2018
光學和光子學.光學元件和系統的制圖準備.第7部分:表面缺陷(ISO 10110-7-2017)
Optics and photonics - Preparation of drawings for optical elements and systems - Part 7: Surface imperfections (ISO 10110-7:2017)
- 標準號
- DIN ISO 10110-7:2018
- 發布
- 2018年
- 發布單位
- 德國標準化學會
- 替代標準
- DIN ISO 10110-7:2018-05
- 當前最新
- DIN ISO 10110-7:2018-05
- 引用標準
- DIN 3140:1958 DIN ISO 10110 Beiblatt 1:2013 DIN ISO 10110-10:2004 DIN ISO 10110-11:2016 DIN ISO 10110-12:2016 DIN ISO 10110-14:2008 DIN ISO 10110-17:2004 DIN ISO 10110-19:2016 DIN ISO 10110-1:2007 DIN ISO 10110-2:2000 DIN ISO 10110-3:2000 DIN ISO 10110-4:2000 DIN ISO 10110-5 Beiblatt 1:2003 DIN ISO 10110-5:2016 DIN ISO 10110-6:2016 DIN ISO 10110-8:2012 DIN ISO 10110-9:2016 DIN ISO 14997:2013 DIN ISO 9211-1:2012 ISO 10110-1:2006 ISO 14997:2017 ISO 3:1973 ISO 9211-1:2010 ISO 9802:1996 ISO/TR 21477
- 被代替標準
- DIN ISO 10110-7:2009 DIN ISO 10110-7:2016
- 適用范圍
- ISO 10110（所有部分）規定了用于制造和檢驗的技術圖紙中單個光學元件和光學組件的設計和功能要求的表示。本文件規定了單個光學元件和光學組件測試區域內表面缺陷可接受水平的指示。這些包括局部表面缺陷、邊緣缺口和長劃痕。考慮到功能效應（影響圖像形成或光學元件的耐用性）以及裝飾（外觀）效應，指定了缺陷的可接受水平。本文件適用于成品光學元件（無論是否鍍膜）的透射和反射表面以及光學組件。它允許根據部件或光學組件上受缺陷影響的區域或缺陷的可見性來指定允許的缺陷。
DIN ISO 10110-7:2018相似標準
DIN ISO 10110-7 E:2016 光學和光子學 光學元件和系統圖紙的準備 第7部分：表面缺陷 (ISO/DIS 10110-7:2016) 草案
DIN ISO 10110-7:2009 光學和光子學.光學元件和系統的制圖準備.第7部分:表面缺陷公差(ISO 10110-7:2008),DIN ISO 10110-7:2009-06的英文版本
GB/T 26332.5-2022 光學和光子學 光學薄膜 第5部分：減反射膜基本要求
GB/T 26332.6-2022 光學和光子學 光學薄膜 第6部分：反射膜基本要求
NF S10-008-7*NF ISO 10110-7:2017 光學和光子學 光學元件和系統圖紙的準備 第7部分：表面缺陷
推薦
了解表面質量
適用于表面質量評級的規定包括：ANSI/OEOSC OP1.002-2009，針對光學和電光儀器 – 光學元素和組件 – 外觀缺陷*ISO 10110-8:2010光學和光子學 -- 光學元件和系統圖的繪制 --第8部分：表面結構；粗糙度和波痕*MIL-PRF-13830B；管理火控儀器光學組件的制造、組裝和檢測的一般規格*可以按照這些標準制造愛特蒙特光學的自定義光學組件愛特蒙特光學遵循zui常用的表面質量評級方法...
了解并指定激光元件的激光損傷閾值（LIDT）
缺陷包括研磨和拋光過程留下的表面下損傷、光學元件上留下的拋光磨粒的極小顆粒，或鍍膜上留下的一團團金屬元素。每個缺陷源都表現出不同的吸收特性，因為任何給定缺陷的性質和大小都將決定光學元件在不造成損傷的情況下能夠承受的激光強度。如前所述，脈沖持續時間對導致激光損傷的機制有很大的影響（圖 5）。...