第4部分:鉻量的測定 二苯卡巴肼分光光度法和電感耦合等離子體原子發射光譜法GB/T 13747.4-19922021-02-017GB/T 14849.1-2020工業硅化學分析方法 第1部分:鐵含量的測定GB/T 14849.1-20072021-02-018GB/T 14849.3-2020工業硅化學分析方法 第3部分:鈣含量的測定GB/T 14849.3-20072021-02-019GB/T...
13747.4-19922021/2/128GB/T 14849.1-2020工業硅化學分析方法 第1部分:鐵含量的測定GB/T 14849.1-20072021/2/129GB/T 14849.3-2020工業硅化學分析方法 第3部分:鈣含量的測定GB/T 14849.3-20072021/2/130GB/T 15076.11-2020鉭鈮化學分析方法 第11部分:鈮中砷、銻、鉛、錫和鉍量的測定...
關鍵詞Plasma 3000,Plasma?2000,工業硅,耐氫氟酸進樣系統國家產品標準GB/T2881-2014《工業硅》中規定,檢測工業硅中雜質元素采用電感耦合等離子體發射光譜儀測定。本實驗參照標準GB/T14849.4-2014《工業硅化學分析方法第四部分:雜質元素含量測定 電感耦合等離子體原子發射光譜法》測定工業硅中鋁、鉻、鈣、硼、銅、鐵、鎂、鎳、錳、磷、鈉、鈦的元素含量。...
/02/2021GB/T 14849.3-2020工業硅化學分析方法 第3部分:鈣含量的測定GB/T 14849.3-200701/02/2021GB/T 15076.11-2020鉭鈮化學分析方法 第11部分:鈮中砷、銻、鉛、錫和鉍量的測定 直流電弧原子發射光譜法GB/T 15076.11-199401/02/2021GB/T 15076.4-2020鉭鈮化學分析方法 第4部分:鐵量的測定 1,10...
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