JIS K0148-2005
表面化學分析.用總反射X-射線熒光(TXRF)測定法測定硅晶片的表面主要污染物

Surface chemical analysis -- Determination of surface elemental contamination on silicon wafers by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy

非常抱歉，我們暫時無法提供預覽，您可以試試： 免費下載 JIS K0148-2005 前三頁，或者稍后再訪問。

如果您需要購買此標準的全文，請聯系： 。

注意： 點擊下載后，生成下載文件時間比較長，請耐心等待......

非常抱歉，我們暫時無法提供預覽，您可以試試： 免費下載 JIS K0148-2005 前三頁，或者稍后再訪問。

注意： 點擊下載后，生成下載文件時間比較長，請耐心等待......

標準號

JIS K0148-2005

發布日期

2005年03月20日

實施日期

廢止日期

無

中國標準分類號

A43

國際標準分類號

71.040.40

發布單位

JP-JISC

適用范圍

この規格は，シリコン鏡面ウェーハ又はエピタキシャルウェーハの表面原子濃度を，全反射蛍光X線分折法(TXRF)によって定量する方法について規定する。 この方法は，次の元素分析に適用する。—原子番號が16(S)から92(U)までの元素 —表面原子濃度が1 × 10<上10> atoms/cm<上2>から1 × 10<上14> atoms/cm<上2>までの汚染元素 —VPD試料前処理法を用いる場合は，表面原子濃度が5 × 10<上8> atoms/cm<上2>から5 × 10<上12> atoms/cm<上2>までの汚染元素

誰引用了JIS K0148-2005 更多引用