本標準規定了通過測量 X 射線發射或熒光來識別元素及其濃度的分析方法的定義。該標準的目的是建立 TXRF 的定義,并將這些定義與光學原子光譜分析各個領域的定義相匹配:光學發射光譜法 (OES)、原子吸收光譜法 (AAS) 和原子熒光光譜法 (AFS)。
全反射X射線熒光光譜儀是一種用于材料科學領域的分析儀器,于2016年11月28日啟用。 一、技術指標 可分析元素范圍:Al~U(靶元素和與靶元素干擾嚴重的元素除外) 濃度范圍:10-9~100% 檢出限:Ni≤2pg 激發源:最大功率≥30W;最大激發電壓≥50kV,最大激發電流≥1mA...
X-射線熒光光譜儀(XRF)是一種較新型可以對多元素進行快速同時測定的儀器。在X射線激發下,被測元素原子的內層電子發生能級躍遷而發出次級X射線(即X-熒光)。波長和能量是從不同的角度來觀察描述X射線所采用的兩個物理量。??波長色散型X射線熒光光譜儀(WD-XRF),是用晶體分光而后由探測器接收經過...
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