ASTM F1710-08
應用高質量分辯率輝光放電質譜計測定電子級鈦中微量金屬雜質的標準試驗方法

Standard Test Method for Trace Metallic Impurities in Electronic Grade Titanium by High Mass-Resolution Glow Discharge Mass Spectrometer

被代替

標準號

ASTM F1710-08

發布

2008年

發布單位

美國材料與試驗協會

替代標準

ASTM F1710-08(2016)

當前最新

ASTM F1710-08(2016)

 

 

適用范圍

該測試方法適用于半導體行業，用于評估薄膜金屬化工藝中使用的材料（例如濺射靶材、蒸發源）的純度。根據有關各方商定，該測試方法可能在負責技術委員會未設想的其他應用中有用。該測試方法旨在供各個實驗室的 GDMS 分析人員使用，以統一測定純鈦中痕量雜質的方案和參數。目的是提高實驗室間分析數據的一致性。該測試方法還針對 GDMS 分析的用戶，以幫助他們了解測定方法以及報告的 GDMS 數據的重要性和可靠性。對于大多數金屬物質，常規分析的檢測限約為 0.01 重量 ppm。通過特殊的預防措施，檢測限制可以達到亞 ppb 水平。本試驗方法可供電子級鈦材料生產者和使用單位參考。
1.1 本試驗方法適用于高純鈦中微量金屬雜質濃度的測定。
1.2 本試驗方法適用于扇形磁輝放電質譜儀（GDMS）分析。
1.3 鈦基體的金屬雜質含量必須達到 99.9 重量%（3N 級）或更純。主要合金成分（例如鋁或鐵）的濃度不得大于 1000 重量 ppm。
1.4 該測試方法不包括完成 GDMS 分析所需的所有信息。需要由經驗豐富的操作員熟練使用的先進計算機控制實驗室設備才能達到所需的靈敏度。該測試方法確實涵蓋了負責技術委員會已知的影響高純度鈦分析可靠性的特定因素（例如，樣品制備、相對靈敏度系數的設置、靈敏度限值的確定等）。
1.5 本標準并不旨在解決與其使用相關的所有安全問題（如果有）。本標準的使用者有責任在使用前建立適當的安全和健康實踐并確定監管限制的適用性。

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