• <li id="ccaac"></li>
  • <table id="ccaac"><rt id="ccaac"></rt></table>
  • <td id="ccaac"></td>
  • <td id="ccaac"></td>
  • ASTM C1110-03
    使用玻璃熔化或壓制粉末法制備礦石中鈾的X射線發射光譜分析用樣品的標準實施規范

    Standard Practice for Sample Preparation for X-Ray Emission Spectrometric Analysis of Uranium in Ores Using the Glass Fusion or Pressed Powder Method


    標準號
    ASTM C1110-03
    發布
    2003年
    發布單位
    美國材料與試驗協會
    替代標準
    ASTM C1110-03(2008)
    當前最新
    ASTM C1110-03(2008)
     
     
    適用范圍
    這種做法對于制備礦體樣本以通過 X 射線發射分析鈾很有用。描述了兩種單獨的制備技術。
    1.1 本實踐涵蓋了通過 X 射線發射進行分析的鈾礦石樣品的制備。可以使用兩種單獨的技術,即玻璃熔融法或壓粉法。
    1.2 以SI(公制)單位表示的數值應被視為標準。
    1.3 本標準并不旨在解決與其使用相關的所有安全問題(如果有)。本標準的使用者有責任在使用前建立適當的安全和健康實踐并確定監管限制的適用性。

    專題


    ASTM C1110-03相似標準


    推薦

    X熒光光譜儀制樣方法(二)

    分析線強度和研磨面的方向有關,入射線和出射線構成平面和磨面研磨方向平行時吸收最小,垂直時吸收最大。采用樣品旋轉就能使這影響平均化。實質上,表面的光潔度不一樣時入射一次X?射線和熒光X?射線光程隨表面磨紋粗細而改變。研磨前后表面光潔度變化三、粉末樣品粉末樣品不存在固體樣品主要缺點(不能用添加劑)。粉末樣品很容易采用標準添加法、稀釋、低吸收稀釋和高吸收稀釋、內標和強度參考內標。...

    X?射線熒光制樣方法淺談(二)

    分析線強度和研磨面的方向有關,入射線和出射線構成平面和磨面研磨方向平行時吸收最小,垂直時吸收最大。采用樣品旋轉就能使這影響?平均化。實質上,表面的光潔度不一樣時入射一 次X?射線和熒光X?射線光程隨表面磨紋粗細而改變。三、粉末樣品 粉末樣品不存在固體樣品主要缺點(不能用添加劑)。粉末樣品很容易采用標準添加法、稀釋、低吸收稀釋和高吸?收稀釋、內標和強度參考內標。...

    X熒光光譜儀制樣方法詳談

    分析線強度和研磨面的方向有關,入射線和出射線構成平面和磨面研磨方向平行時吸收最小,垂直時吸收最大。采用樣品旋轉就能使這影響平均化。實質上,表面的光潔度不一樣時入射一次X 射線和熒光X 射線光程隨表面磨紋粗細而改變。研磨前后表面光潔度變化三、粉末樣品粉末樣品不存在固體樣品主要缺點(不能用添加劑)。粉末樣品很容易采用標準添加法、稀釋、低吸收稀釋和高吸收稀釋、內標和強度參考內標。...

    X熒光光譜儀制樣方法總結,不可多得資料!

    很難,保證松散粉末表面結構重復性,采用壓片可基本上消除這個問題,某些粉末,有吸濕性,或能與空氣二氧化碳起反應,好把它們放入邁拉膜密封樣品槽。另外,有些粉末內聚力小,可與粘結劑混合后壓制成片。然而,粉末樣品,嚴重問題還是粉末粒度效應。粉末某元素譜線強度不僅決定于該元素濃度,而且還決定于它粒度。...


    誰引用了ASTM C1110-03 更多引用





    Copyright ?2007-2022 ANTPEDIA, All Rights Reserved
    京ICP備07018254號 京公網安備1101085018 電信與信息服務業務經營許可證:京ICP證110310號

  • <li id="ccaac"></li>
  • <table id="ccaac"><rt id="ccaac"></rt></table>
  • <td id="ccaac"></td>
  • <td id="ccaac"></td>
  • 床戏视频