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    • UNE 81550:2017
    工作場所暴露 空氣中結晶游離二氧化硅（可吸入部分）的測定 紅外光譜法

    Workplace exposure. Determination of crystalline free silica (respirable fractions) in the air. Method by infrared spectrometry


    UNE 81550:2017 中，可能用到以下儀器設備

     

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    Spotlight 300傅立葉變換紅外/近紅外圖像系統(PerkinElmer)

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    珀金埃爾默企業管理（上海）有限公司PerkinElmer

     

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    珀金埃爾默企業管理（上海）有限公司PerkinElmer

     

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    賽默飛分子光譜儀器

     

    Nicolet iG50 FT-IR 光譜儀

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    Nicolet iS5N 傅里葉變換近紅外光譜儀

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    賽默飛分子光譜儀器

     

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    Nicolet iN10 MX 顯微紅外成像光譜儀

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    美國布魯克道爾頓公司（Bruker Daltonic Inc.）

     

    標準號
    UNE 81550:2017
    發布
    2017年
    發布單位
    AENOR
    當前最新
    UNE 81550:2017
     
     

    專題

    紅外光譜二氧化硅的峰 二氧化硅乳液紅外光譜 二氧化硅紅外吸收光譜圖

    UNE 81550:2017相似標準

    ASTM D7948-20 通過紅外光譜法測量工作場所空氣中可吸入結晶二氧化硅的標準測試方法 BS ISO 19087:2018 工作場所空氣 可吸入結晶二氧化硅的傅立葉變換紅外光譜分析 ASTM D7948-14e1 通過紅外光譜法測量工作場所空氣中可吸入結晶二氧化硅的標準測試方法 ISO 19087:2018 工作場所空氣.用傅里葉變換紅外光譜法分析可吸入結晶二氧化硅 PN Z04018-03-1991 空氣純度保護．游離結晶硅的含量的試驗，通過紅外吸收光譜測定工作場所可吸入粉塵中的游離結晶硅

    UNE 81550:2017 中可能用到的儀器設備

    紅外光譜儀


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