對掩模有如下要求：①掩模的圖形區和非圖形區對光線的吸收或透射的反差要盡量大;②掩模的缺陷如針孔、斷條、橋連、臟點和線條的凹凸等要盡量少;③掩模的圖形精度要高。通常用于大規模集成電路的光刻掩模材料有涂有光膠的鍍鉻玻璃板或石英板。用計算機制圖系統將掩模圖形轉化為數據文件，再通過專用接口電路控制圖形發生器中的爆光光源、可變光闌、工作臺和鏡頭，在掩模材料上刻出所需的圖形。...
：禁止觸摸、禁止飲用、當心吊物、當心障礙物、當心滑倒；———減少1個圖形符號：當心瓦斯；———規定了新增、修改后安全標志圖形應設置的范圍和地點、型號的選用、設置高度以及使用的要求等內容。...
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