標準名稱: 用電化學阻抗譜(EIS)表征抑制劑和腐蝕產物膜
適用范圍:
本研究探討了在多相流條件下,用電化學阻抗譜(EIS)和泰氟(Tefal)技術來評估腐蝕抑制劑的效果。實驗結果表明,在低溫低壓環境下,無抑制劑的腐蝕產物層不具備保護作用;而在弗勞德數為6的脈沖流中,隨油相的加入,抑制劑的有效性增強,并在100 ppm濃度下幾乎達到100%。通過泰氟分析推測,最可能降低腐蝕速率的方式是吸附咪唑啉分子阻塞金屬表面的活性位點。
電化學阻抗譜(EIS)顯示,在增加抑制劑濃度時,雙層電容和抑制劑膜電容急劇下降,而孔隙中的溶液電阻增加。分析表明,形成在金屬表面上非常致密的抑制劑膜而不是腐蝕產物膜厚度的增加可能是原因。
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