這些濺射的源材料離子是高能的并且撞擊在襯底表面上,產生致密的膜。雖然IBS在激光光學涂層領域得到了廣泛應用,但由于缺乏對其他涂層技術能力的了解,它被過度使用。在原子層沉積中,光學涂層由氣體前體逐層構建。與蒸發沉積不同,源材料不需要從固體中蒸發,而是可以直接從氣體中產生。盡管如此,涂覆通常仍在升高的溫度下進行。原子層沉積(ALD)的關鍵區別在于前體是以非重疊脈沖輸送的,并且每個脈沖是自限制的。...
介紹? ? ? 涂層厚度測量是工業涂層應用中最常見的質量評估之一。SSPC-PA 2,確定干涂層厚度要求的一致性的程序在涂料規格中經常引用。由于SSPC-PA 2在過去四十年中不斷發展,因此在標準的強制性部分和非強制性附錄中都引用了許多程序和測量頻率。雖然測量頻率從未打算成為統計過程,但了解測量過程的統計含義是有幫助的。了解涂層厚度變化是否合理是有幫助的。...
光學器件背面的補償涂層已被證明可減少高達90%的表面變形,但在某些情況下,光學器件的每個表面上需要不同的涂層,在這種情況下,涂層會施加不同水平的應力,并且也不會相互補償。在高度敏感的應用中,施加補償涂層后的剩余變形仍足以顯著降低系統性能。當高度控制光學器件的表面形狀時(例如當指定λ/20表面時),涂層引起的表面變形更加明顯。...
05超快光學表面質量的規定在分析超快光學器件時,制造商必須自行決定指定表面質量,因為目前沒有這樣做的標準。一些超快光學器件制造商僅指定預涂覆表面質量,而其他制造商可能僅報價20-10或更高的涂覆后表面質量。為超快應用制造的光學器件通常具有厚的專用涂層,需要長時間的濺射過程。由于該過程的長度,缺陷可能會濺射到涂層內,這會導致“灰塵”的外觀或其他不規則的表面質量。...
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