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對高性能、高能效電子產品的需求正在推動具有更小、更密集的功能和復雜的3D結構的先進設備的發展。這些尖端微處理器、存儲器件和其他產品的產能生產極具挑戰性，需要對深埋在器件內部的特征進行高分辨率、原子級分析。透射電子顯微鏡（TEM）正日益成為這種分析的首選技術，并依賴于通過聚焦離子束（FIB）銑削生產的高質量樣品。

賽默飛世爾科技Helios 5 EXL DualBeam是一款300mm全晶圓聚焦離子束掃描電子顯微鏡（FIB-SEM），旨在解決半導體行業中的TEM樣品制備挑戰。Helios 5 EXL DualBeam能夠為當今最先進的工藝節點制備樣品，包括亞5nm和門全方位技術。

Helios 5 EXL DualBeam雙束掃描電鏡由賽默飛電子顯微鏡（原FEI）為您提供，如您想了解更多關于Helios 5 EXL DualBeam雙束掃描電鏡 報價、型號、參數等信息，歡迎來電或留言咨詢。

注：該產品未在中華人民共和國食品藥品監督管理部門申請醫療器械注冊和備案，不可用于臨床診斷或治療等相關用途。