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  • 氫化物發生-原子熒光光譜法測定化妝品中痕量鉛

    上一篇 / 下一篇  2009-03-05 02:41:02/ 個人分類:原子熒光

    • 文件版本: V1.0
    • 開發商: 本站原創
    • 文件來源: 本地
    • 界面語言: 簡體中文
    • 授權方式: 免費
    • 運行平臺: Win9X/Win2000/WinXP

    摘 要:應用氫化物發生2原子熒光光譜法( HG2AFS) 測定化妝品中痕量,采用高氯酸作為反應介質,并對最佳分析條件進行了探討。結果表明,該法的檢出限為0. 5μg/ L ,線性范圍為1. 00~400 μg/ L ,回收率為88. 7 %~96. 5 %。用標準物質進行對照,測定值均在規定的標準值范圍內。該方法操作簡便,精密度和準確度好,線性范圍寬,檢出限低,具有實際應用價值。




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    TAG: 光度法化妝品原子熒光氫化物發生

     

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