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光學清洗劑配方分析
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下一篇 2012-12-04 13:19:03 / 天氣: 晴朗/ 心情: 高興/ 個人分類：清洗劑配方
光學清洗劑主要是以氟利昂 (Fll3) 為主體與其它有機溶劑的共沸物。主要適用于超聲波清洗及其它裝置,手工方法清洗等之用。其性能特點:該清洗劑溶解性能較強 ,與空氣混合不產生爆炸, 不燃燒,無毒害;由于它的沸點溫度低, 零件表面張力較小,因此濕潤性好, 可以清洗形狀復雜的零件;不導電并有優異的電介常數這種清洗劑是電子、光學、精密機械儀器等行業不可缺少的清洗劑。適用于金屬、非金屬材料粘接前的清洗和電子元器件焊接后的清洗, 特別適用于清洗極性油污臟物、松香助焊劑、塑料制品和印刷線路板、電子元器件手印及油脂臟物。
典型清洗劑配方如下：（僅供參考）
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組成 |
百分含量 |
成分作用 |
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脂肪醇聚氧乙烯醚 |
2％～8％ |
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烷基酚聚氧乙烯醚 |
2％～8％ |
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脂肪酸烷醇酰胺 |
3％～10％ |
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油酸 |
5％～25％ |
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三乙醇胺 |
10％～22％ |
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單乙醇胺 |
5％～18％ |
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烷基磺酸鈉 |
0.5％～3％ |
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苯并三氮唑 |
0.01％～0．5％ |
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乙二胺四乙酸二鈉 |
1％~ 2％ |
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水 |
余量 |
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