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  • 伯東公司 主要經營產品德國 Pfeiffer 渦輪分子泵, 干式真空泵, 羅茨真空泵, 旋片真空泵; 應用于各種條件下的真空測量(真空計, 真空規管);氦質譜檢漏儀;質譜分析儀;真空系統以及美國Brooks CTI Cryopump 冷凝泵/低溫泵, HVA 真空閥門, Polycold 冷凍機和美國KRI 離子源,Gamma離子泵. 網站: www.hakuto-vacuum.cn TEL: +86 (021) 5046-3511轉106 Fax : +86 (021) 5046-1490 E-mail: ec@hakuto-vacuum.cn

    KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380 鍍制紅外器件 ZnS 薄膜

    上一篇 / 下一篇  2021-03-08 15:55:09/ 個人分類:離子源

    半導體廠商為了提高紅外器件 ZnS 薄膜厚度均勻性采用  KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380  輔助磁控濺射沉積設備鍍制紅外器件 ZnS 薄膜并采用動態沉積的方法--樣品臺離心旋轉的方式補償或改善圓形磁控靶在正對的基片上沿徑向的濺射沉積不均勻分布.

     

    KRI 射頻離子源 RFICP380 技術參數:

    射頻離子源型號

    RFICP380

    Discharge 陽極

    射頻 RFICP

    離子束流

    >1500 mA

    離子動能

    100-1200 V

    柵極直徑

    30 cm Φ

    離子束

    聚焦平行散射

    流量

    15-50 sccm

    通氣

    Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

    典型壓力

    < 0.5m Torr

    長度

    39 cm

    直徑

    59 cm

    中和器

    LFN 2000

    紅外器件金屬膜需要高均勻性的原因: 

    紅外器件幾乎都要進行表面鈍化和鍍制金屬膜在紅外焦平面和讀出電路的互連工藝中金屬膜的厚度均勻性對于互連工藝的可靠性起著至關重要的作用而在背照式紅外探測器的光接收面往往都要涂鍍一層或數層介質膜以起到對器件進行保護和對紅外輻射減反射的作用介質膜的厚度均勻性同樣會影響探測器的濾光和接收帶寬

     

    KRI 離子源的獨特功能實現了更好的性能增強的可靠性和新穎的材料工藝. KRI 離子源已經獲得了理想的薄膜和表面特性而這些特性在不使用 KRI 離子源技術的情況下是無法實現的.

     

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    TAG: krirficp380薄膜紅外器件zns

     

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