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伯東公司主要經營產品德國 Pfeiffer 渦輪分子泵, 干式真空泵, 羅茨真空泵, 旋片真空泵; 應用于各種條件下的真空測量(真空計, 真空規管);氦質譜檢漏儀；質譜分析儀；真空系統以及美國Brooks CTI Cryopump 冷凝泵/低溫泵, HVA 真空閥門, Polycold 冷凍機和美國KRI 離子源,Gamma離子泵. 網站: www.hakuto-vacuum.cn TEL: +86 (021) 5046-3511轉106 Fax : +86 (021) 5046-1490 E-mail: ec@hakuto-vacuum.cn

Hakuto 離子蝕刻機 20IBE-J 用于陶瓷基片銀薄膜減薄

上一篇 / 下一篇 2021-01-08 16:05:11/ 個人分類：離子刻蝕機

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某陶瓷基片制造商采用伯東 Hakuto 離子蝕刻機 20IBE-J 應用于 5G 陶瓷基片銀薄膜減薄, 通過蝕刻工藝把基片涂層銀薄膜刻蝕減薄, 并降低工差, 提高薄膜均勻性.

Hakuto 離子蝕刻機 20IBE-J 技術參數

Φ4 inch X 12片	基片尺寸	Φ4 inch X 12片 Φ5 inch X 10片 Φ6 inch X 8片
均勻性	±5%
硅片刻蝕率	20 nm/min
樣品臺	直接冷卻,水冷
離子源	Φ20cm 考夫曼離子源

Hakuto 離子刻蝕機 20IBE-J 的核心構件離子源采用的是伯東公司代理美國考夫曼博士創立的 KRI考夫曼公司的射頻離子源 RFICP220

伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 220 技術參數:

離子源型號	RFICP 220
Discharge	RFICP 射頻
離子束流	>800 mA
離子動能	100-1200 V
柵極直徑	20 cm Φ
離子束	聚焦, 平行, 散射
流量	10-40 sccm
通氣	Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型壓力	< 0.5m Torr
中和器	LFN 2000

推薦 Hakuto 離子蝕刻機 20IBE-J 理由:

1. 客戶要求規模化生產, Hakuto 離子蝕刻機 20IBE-J 適合大規模量產使用

2. 刻蝕均勻性 5%, 滿足客戶要求

3. 硅片刻蝕率 20 nm/min

若您需要進一步的了解詳細產品信息或討論 , 請參考以下聯絡方式 :

上海伯東 : 羅先生                               臺灣伯東 : 王小姐
T: +86-21-5046-1322                 T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049
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TAG: 20ibe-j Hakuto hakuto 離子蝕刻機

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